[发明专利]反射片和背光模组有效

专利信息
申请号: 201910170743.6 申请日: 2019-03-07
公开(公告)号: CN109738979B 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 储汉奇 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G09F9/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 230012 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射 背光 模组
【权利要求书】:

1.一种反射片,其特征在于,包括:

基材;

掺杂氧化物的金属层,所述掺杂氧化物的金属层设置在所述基材的表面上,所述掺杂氧化物的金属层的厚度为8μm~12μm;以及

银层,所述银层设置在所述掺杂氧化物的金属层远离所述基材的表面上。

2.根据权利要求1所述的反射片,其特征在于,所述掺杂氧化物的金属层为掺杂氧化锆的铝箔。

3.根据权利要求2所述的反射片,其特征在于,在所述掺杂氧化锆的铝箔中,所述氧化锆的质量百分含量为1.5%~5%。

4.根据权利要求3所述的反射片,其特征在于,在所述掺杂氧化锆的铝箔中,所述氧化锆的质量百分含量为2.5%。

5.根据权利要求1所述的反射片,其特征在于,所述银层的厚度为2μm~6μm。

6.根据权利要求1所述的反射片,其特征在于,在所述基材和所述掺杂氧化物的金属层之间,还包括粘结层。

7.根据权利要求1所述的反射片,其特征在于,所述银层远离所述掺杂氧化物的金属层的表面具有凸起部。

8.根据权利要求7所述的反射片,其特征在于,所述凸起部的高度为20μm~40μm。

9.一种制作权利要求1~8中任一项所述的反射片的方法,其特征在于,包括:

在所述基材的表面上形成所述掺杂氧化物的金属层;

在所述掺杂氧化物的金属层远离所述基材的表面上形成所述银层,以便得到所述反射片。

10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,还包括:

对所述银层的表面进行滚花处理,以便在所述银层的表面上形成凸起部。

11.一种背光模组,其特征在于,包括权利要求1~8中任一项所述的反射片,所述反射片的银层设置在所述背光模组的导光板的背光面上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910170743.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top