[发明专利]描绘装置有效

专利信息
申请号: 201910171306.6 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN110031965B 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 加藤正纪;中山修一 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08;G02B26/10;G03F7/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 韩嫚嫚;汤在彦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 描绘 装置
【权利要求书】:

1.一种描绘装置,一面将被可动偏向构件偏向于第1方向的光束,以扫描用光学系统投射至被照射体上,一面于上述被照射体上沿上述第1方向进行一维扫描,以于上述被照射体描绘图案,其具备:

第1调整光学系统,其包含于上述第1方向具有折射力的第1透镜构件也即第1柱面透镜,上述第1调整光学系统使投射至上述可动偏向构件的上述光束在与上述第1方向正交的第2方向收敛;及

第2调整光学系统,其包含于上述第2方向具有折射力的第2透镜构件也即第2柱面透镜,上述第2调整光学系统使从上述扫描用光学系统朝向上述被照射体的上述光束在上述第2方向收敛;

将上述光束的波长设为λ,将投射至上述被照射体的上述光束在上述第1方向的数值孔径设为NAy,将在上述第2方向的数值孔径设为NAx,将投射至上述被照射体的上述光束在上述第1方向的球面像差设为S1,将在上述第2方向的球面像差设为S2时,上述第1透镜构件与上述第2透镜构件,被设定为满足如下两个条件的任一者:

S1<λ/NAy2且S2<λ/NAx2

|S1-S2|<λ/NAy2且|S1-S2|<λ/NAx2

2.如权利要求1所述的描绘装置,其中,上述第1调整光学系统包含第3透镜构件,该第3透镜构件具有使通过上述第1透镜构件的上述光束射入后投射向上述可动偏向构件的等向性折射力;

上述第1透镜构件,配置成在上述第3透镜构件的前方的位置使上述光束在上述第1方向收敛。

3.如权利要求2所述的描绘装置,其进一步具备发出上述光束的光源装置;

上述第1调整光学系统,进一步包含扩大从上述光源装置射出的上述光束的直径的扩束器系统。

4.如权利要求3所述的描绘装置,其中,在上述第1方向的球面像差S1,是由上述扩束器系统、上述第1透镜构件、上述第3透镜构件、及上述扫描用光学系统产生;

在上述第2方向的球面像差S2,是由上述扩束器系统、上述第3透镜构件、上述扫描用光学系统、及上述第2透镜构件产生。

5.如权利要求2至4中任一项所述的描绘装置,其中,为了使投射至上述被照射体上的上述光束的上述第1方向的数值孔径、与上述第2方向的数值孔径在既定容许范围内一致,

设定为在将上述第1透镜构件的焦距设为fC1,将上述第2透镜构件的焦距设为fC2,将上述第3透镜构件的焦距设为fG,以及将上述扫描用光学系统的焦距设为fθ时,于既定误差范围内满足如下关系:

fG2/fC1=fθ2/fC2

6.如权利要求5所述的描绘装置,其中,将上述第1透镜构件的焦距fC1与上述第2透镜构件的焦距fC2共同设为较上述扫描用光学系统的焦距fθ小。

7.如权利要求1所述的描绘装置,其中,将上述第1透镜构件的焦距设为fC1,将上述第2透镜构件的焦距设为fC2,将上述扫描用光学系统的焦距设为fθ时,

将焦距fC1设定为较焦距fθ长,且将焦距fC2设定为较焦距fθ小。

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