[发明专利]成像用光学系统、取像装置及电子装置有效

专利信息
申请号: 201910171402.0 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN109683292B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 许伯纶;林振诚;陈纬彧 申请(专利权)人: 大立光电股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 成像 用光 系统 装置 电子
【说明书】:

本发明揭露一种成像用光学系统、取像装置及电子装置。成像用光学系统由物侧至像侧依序包含第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜以及第六透镜。第一透镜具有正屈折力,其物侧表面近光轴处为凸面。第三透镜像侧表面近光轴处为凹面。第四透镜像侧表面近光轴处为凹面。第五透镜具有正屈折力。第六透镜具有负屈折力,其像侧表面近光轴处为凹面,其像侧表面离轴处包含至少一凸面,且其物侧表面及像侧表面皆为非球面。当满足特定条件时,可维持成像用光学系统的小型化,以在大光圈与大视角的配置需求下兼具短总长的特点。本发明还公开具有上述成像用光学系统的取像装置及具有取像装置的电子装置。

本申请是申请日为2015年09月30日、申请号为201510638188.7、发明名称为“成像用光学系统、取像装置及电子装置”的专利申请的分案申请。

技术领域

本发明是有关于一种成像用光学系统及取像装置,且特别是有关于一种应用在电子装置上的小型化成像用光学系统及取像装置。

背景技术

近年来,随着具有摄影功能的电子产品的兴起,光学系统的需求日渐提高。一般光学系统的感光元件不外乎是感光耦合元件(Charge Coupled Device,CCD)或互补性氧化金属半导体元件(Complementary Metal-Oxide Semiconductor Sensor,CMOS Sensor)两种,且随着半导体制程技术的精进,使得感光元件的像素尺寸缩小,光学系统逐渐往高像素领域发展,因此对成像品质的要求也日益增加。

传统搭载于电子产品上的光学系统多采用四片或五片式透镜结构,而在智能手机与可携式装置等高规格移动装置的盛行之下,凸显了电子产品轻薄化的需求,其搭载的摄像镜头也逐渐朝往大光圈、短总长发展。然而已知的光学系统由于不易兼具大光圈与短总长的需求,因此难以搭载于轻薄的电子装置上。

目前虽有进一步发展六片式光学系统,但在产品朝向大光圈与小型化设计的同时,常因其过高的杂散光而导致其成像品质无法达成需求。

发明内容

本发明提供一种成像用光学系统、取像装置及电子装置,通过第三透镜像侧表面与第四透镜像侧表面皆为凹面,可减缓第三透镜与第四透镜整体面形的变化,有效降低杂散光的产生,以兼具良好的成像品质与制造性。再者,亦可维持成像用光学系统的小型化,以在大光圈与大视角的配置需求下兼具短总长的特点。

依据本发明提供一种成像用光学系统,由物侧至像侧依序包含第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜以及第六透镜。第一透镜具有正屈折力,其物侧表面近光轴处为凸面。第三透镜具有正屈折力,其像侧表面近光轴处为凹面。第四透镜像侧表面近光轴处为凹面。第五透镜具有正屈折力。第六透镜具有负屈折力,其像侧表面近光轴处为凹面,其像侧表面离轴处包含至少一凸面,且其物侧表面及像侧表面皆为非球面。成像用光学系统的透镜总数为六片,任二相邻的透镜间皆具有一空气间隙,第一透镜的焦距为f1,第三透镜的焦距为f3,第四透镜的焦距为f4,第五透镜的焦距为f5,第六透镜的焦距为f6,且|f3|及|f4|皆大于|f1|、|f5|及|f6|,第一透镜物侧表面至第六透镜像侧表面于光轴上的距离为Td,成像用光学系统的最大像高为ImgH,第三透镜的色散系数为V3,第四透镜的色散系数为V4,成像用光学系统的焦距为f,成像用光学系统的入射瞳直径为EPD,其满足下列条件:

Td/ImgH1.25;

1.5V3/V44.0;

|f/f3|+|f/f4|≤0.28;以及

1.25ImgH/EPD1.75。

依据本发明更提供一种取像装置,包含如前段所述的成像用光学系统以及电子感光元件,其中电子感光元件设置于成像用光学系统的成像面。

依据本发明另提供一种电子装置,包含如前段所述的取像装置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大立光电股份有限公司,未经大立光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910171402.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top