[发明专利]显示基板及其制备方法

说明书

一种显示基板及其制备方法。该显示基板包括像素界定层和可控变形层；像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；可控变形层位于像素界定层上，且可控变形层的至少一部分在平行于像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。该显示基板的有机功能层形态均匀，因此该显示基板具有更优质的显示效果。

技术领域

本公开的实施例涉及一种显示基板及其制备方法。

背景技术

有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。

有机发光显示装置的有机功能层例如可以采用喷墨打印的方式形成，此时，需要预先在衬底基板上制作像素界定层，以限定有机功能材料精确的喷入指定的像素区域内。

发明内容

本公开至少一实施例提供一种显示基板，包括：像素界定层，包括多个开口，用于界定多个像素单元；可控变形层，位于所述像素界定层上，且所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，在垂直于所述像素界定层的方向上，所述可控变形层的横向延伸后的截面为在所述像素界定层一侧较窄的倒梯形。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层的材料包括光致变形材料。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述光致变形材料包括偶氮苯、苯并螺吡喃、含肉桂酸基团的共聚物或聚乙烯聚合物。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述横向延伸通过采用第一光照射所述可控变形层而实现。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层的材料包括磁致伸缩材料。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层包括含有铽镝铁稀土超磁致伸缩粒子的树脂聚合物材料。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述横向延伸通过对所述可控变形层施加磁场而实现。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层的厚度为0.5μm-1.5μm。

本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成像素界定层，所述像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；在所述像素界定层上形成可控变形层，所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法还包括：在所述开口中填充液体材料；在干燥所述液体材料的同时，向所述可控变形层施加第一控制，使得所述可控变形层朝向所述开口的方向横向延伸。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，在干燥所述液体材料之后，所述制备方法还包括：控制所述可控变形层，使所述可控变形层的横向延伸撤回。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，向所述可控变形层施加第一控制包括：通过改变所述第一控制的持续时间和强度的至少之一而控制所述可控变形层的横向延伸的大小。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，当所述可控变形层的材料为光致变形材料时，所述第一控制是第一光照；控制所述可控变形层，使所述可控变形层的横向延伸撤回包括：撤去所述第一光照，或者对所述可控变形层施加与所述第一光照波长范围不同的第二光照；通过改变所述第一控制的持续时间和强度的至少之一而控制所述可控变形层的横向延伸的大小包括：通过改变所述第一光照的照射时间、光强度或者照射时间和光强度而控制所述可控变形层的横向延伸大小。

例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，所述第一光照为紫外光照，所述第二光照为可见光照。