[发明专利]感光性树脂组合物及使用其的图案形成方法有效
申请号: | 201910181558.7 | 申请日: | 2019-03-11 |
公开(公告)号: | CN110275391B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 李殷相;梁敦植;宋寅珏 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鲜英;张敬强 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 使用 图案 形成 方法 | ||
本发明提供感光性树脂组合物及使用其的图案形成方法。上述感光性树脂组合物包含碱溶性树脂、感光剂、含有二烷系化合物的显影增强剂和溶剂。通过显影增强剂的作用,能够提高灵敏度和分辨率。
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法。更详细而言,涉及包含树脂和感光性成分的感光性树脂组合物以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法。
背景技术
例如,为了形成显示设备或半导体元件的光致抗蚀剂、绝缘膜、保护膜、黑矩阵、柱状间隔物等多种多样的光固化绝缘图案,会使用感光性树脂组合物。例如,硅氧化物或硅氮化物之类的无机绝缘膜的介电常数高,因而对于低介电有机绝缘膜的需求增加,为了形成上述有机绝缘膜,可以使用上述感光性树脂组合物。
上述感光性树脂组合物根据通过显影工序而被去除的部分分类为正型和负型。对于正型组合物而言,曝光的部分被显影液溶解,对于负型组合物而言,未曝光的部分发生溶解而可以形成图案。
近年来,显示设备或半导体装置的分辨率不断增加,图案的临界尺寸(criticaldimension:CD)急剧微小化。由此,用于形成绝缘膜或绝缘图案的感光性组合物也需要具有提高了的灵敏度和分辨率。
为了形成提高了分辨率的绝缘图案,例如需要增加由感光性树脂组合物形成的预绝缘膜的曝光部和非曝光部的物理、化学差异,还需要考虑感光性树脂组合物的成分来设计。
例如,韩国公开专利第2013-0021324号虽然公开了一种正型抗蚀剂组合物,但通过上述组合物,并不能充分实现上述高分辨率的曝光/显影工序。
现有技术文献
专利文献
韩国公开专利第10-2013-0021324号
发明内容
所要解决的课题
本发明的一个课题在于,提供高分辨率、高灵敏度的感光性树脂组合物。
本发明的一个课题在于,提供使用上述感光性树脂组合物的图案形成方法。
解决课题的方法
1.一种感光性树脂组合物,其包含:碱溶性树脂、感光剂、含有二烷系化合物的显影增强剂、以及溶剂。
2.如1所述的感光性树脂组合物,上述二烷系化合物包含1,4-二/烷。
3.如1所述的感光性树脂组合物,组合物总重量中,上述显影增强剂的含量为0.001ppb~1重量%。
4.如1所述的感光性树脂组合物,上述感光剂包含重氮萘醌(diazonaphthoquinone;DNQ)系的化合物。
5.如1所述的感光性树脂组合物,上述碱溶性树脂包含苯酚系酚醛清漆树脂或甲酚系酚醛清漆树脂。
6.一种图案形成方法,其包括:在基板上涂布包含碱溶性树脂、感光剂、含有二烷系化合物的显影增强剂和溶剂的感光性树脂组合物而形成感光性膜的步骤;将上述感光性膜曝光而形成曝光部和非曝光部的步骤;以及通过显影工序将上述曝光部去除而形成绝缘图案的步骤。
7.如6所述的正型感光性树脂组合物,其进一步包括:在形成上述感光性膜之前,在上述基板上形成蚀刻对象膜的步骤;以及使用上述绝缘图案作为蚀刻掩模对上述对象膜进行蚀刻的步骤。
8.如7所述的图案形成方法,其进一步包括:在上述对象膜上形成缓冲层的步骤。
9.如6所述的图案形成方法,上述显影增强剂包含1,4-二烷。
发明效果
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