[发明专利]准光学微腔结构太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种准光学微腔结构太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，包括三部分：由下而上依次是金属红外反射层、准光学微腔吸收体、光学减反层，

其中，准光学微腔吸收体由金属陶瓷1-金属-金属陶瓷2结构构成，

所述金属为金属W，金属陶瓷1为W-SiO₂金属陶瓷1，金属陶瓷2为W-SiO₂金属陶瓷2，.光学减反层为Al₂O₃光学减反层1和SiO₂光学减反层2；

其中，由下而上依次为：金属W红外反射层为50-150nm，W-SiO₂金属陶瓷1为30-60nm，中间金属W层为3-15nm，W-SiO₂金属陶瓷2为45-65nm，Al₂O₃光学减反层1为10-30nm，SiO₂光学减反层2厚度为45-70nm；

并且，金属陶瓷成分W：SiO₂的体积占比为1：5到2：3。

2.一种制备权利要求1所述的一种准光学微腔结构太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，包括：

采用机械抛光的不锈钢304作为衬底，利用高真空多靶磁控溅射系统对该吸收涂层进行由下而上沉积，其中，金属W采用的是直流溅射沉积，功率密度为2.00-2.50(W cm^-2)，Al₂O₃光学减反层1和SiO₂光学减反层2采用的是射频溅射，功率密度为3.00-4.00(W cm^-2)，W-SiO₂金属陶瓷依次采用直流和射频共溅射沉积，其溅射功率密度分别为0.50-1.00(W cm^-2)和3.50-4.50(W cm^-2)。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

1)机械抛光的不锈钢先后用丙酮和无水乙醇进行擦洗干净，进行基片固定；

2)抽真空，本底真空小于4×10^-4Pa；

3)对基片进行偏压清洗，氩气环境，气压为0.6-0.8Pa，清洗时间3-5min；

4)开始溅射，在氩气环境下，气压为0.3-0.5Pa，依次溅射红外金属W反射层，准光学微腔吸收体，和光学减反层；

5)沉积完成后，在真空腔内放置20-25min，取样。