[发明专利]一种单相固溶体结构的AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用在审
申请号: | 201910190130.9 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN109881148A | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 陈汪林;颜安;王成勇;李炳新 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单相固溶体 氮化物涂层 高熵合金 制备方法和应用 抗高温氧化性能 面心立方结构 硬质合金刀具 柱状晶结构 立方结构 切削性能 热稳定性 打底层 高硬度 工作层 结合力 刀具 和面 | ||
本发明涉及一种单相固溶体结构的AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用。所述AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层从下至上包括柱状晶结构的AlCrTiSiN面向立方单相固溶体打底层和面心立方结构的AlCrTiSiN面心立方结构单相固溶体工作层。本发明提供的AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层具有高硬度和韧性,热稳定性超过1000℃,膜‑基结合力、抗高温氧化性能优异;将其作为硬质合金刀具涂层时,该刀具具有优异的切削性能。
技术领域
本发明属于氮化物硬质涂层领域,具体涉及一种单相固溶体结构的 AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用。
背景技术
随着现代制造业的快速发展,越来越多的产品需要切削、铣削、钻削等机加工。我国每年各种刀具消耗在200亿元以上,刀具性能直接影响产品的质量和刀具的寿命。目前,硬质合金刀具加工过程中,刀具面临高的切削力和切削振动,刀具尖端刃口与被加工工件之间存在剧烈摩擦磨损和热冲击作用,刀具尖端刃口加工温度可达1000℃以上,导致刀具基体软化,加速刀具粘附磨损和化学磨损,显著降低产品加工质量和刀具寿命。因此,对刀具刃口出提出高的红硬性、热稳定性、韧性等性能要求。
物理气相沉积(PVD)涂层具有高的表面硬度、良好的热稳定性和耐磨性,显著提高了高速钢刀具的使用寿命,降低生产成本和保证加工产品的质量。目前市场主流刀具涂层为:AlCrN、TiSiN、CrTiN、AlCrSiN等三组元或四组元中熵合金氮化物涂层,这些中熵合金氮化物涂层内应力高、脆性大,涂层热稳定性欠佳,难以满足不锈钢、淬硬钢等典型难加工材料高速加工的要求。即使有少量的 AlCrTiSiN等五组元高熵合金氮化物涂层,但这些涂层由纳米晶镶嵌非晶基体组成的纳米复合结构组成,涂层耐热性较差,难以承受800℃高温,否则刀具涂层性能显著退化。AlCrTiSiN热稳定性与Al含量及其形成焓紧密相关。涂层中Al含量对提出性能有显著影响,适量的Al可以提高涂层致密性、热稳定性和抗高温氧化性能,但过量的Al会导致涂层中析出hcp-AlN,涂层性能降低;形成焓过高,AlCrTiSiN固溶体不稳定,发生调幅分解,形成纳米复合结构。因此, AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层中Al含量及其形成焓的调控是制备单相固溶的 AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层的必须考虑的问题。
另外,为了提高涂层与基体结合力,通常会在涂层与基体之间沉积打底层和过渡层。这些打底层可能是金属(Cr或AlCr等)或其氮化物(CrN,AlCrN等)。尽管如此,我们发现CrN在700℃时分解成脆性的Cr2N相,而AlCrN在800℃时非晶成脆性的Cr2N和hcp-AlN,导致涂层结合力显著降低。增加打底层组元含量,有利于提高涂层的热稳定性。
因此,开发一种具有具有优异的力学和热稳定性,可承受800℃高温及结合力强的新型涂层具有重要的研究意义和应用价值。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中AlCrTiSiN涂层热稳定不佳,结合力较差的缺陷和不足,提供一种相固溶体结构的AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层。本发明提供的AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层包括单相固溶体的打底层和工作层,其中打底层为柱状晶结构,可显著增加涂层的热稳定性、结合力和承载能力;而工作层为面心立方结构,可提高涂层热稳定性、表面硬度、耐磨性、抗高温氧化性能、自润滑作用等,不是由纳米晶镶嵌非晶基体的纳米复合结构;通过打底层和工作层的配合,该涂层具有高硬度和韧性,热稳定性超过1000℃,膜-基结合力、抗高温氧化性能优异。将其作为硬质合金刀具涂层时,该刀具具有优异的切削性能。
本发明的另一目的在于提供上述AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层的制备方法。
本发明的另一目的在于提供上述AlCrTiSiN高熵合金氮化物涂层在制备硬质合金产品中的应用。
为实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
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