[发明专利]一种银或银合金的表面抛光处理工艺

权利要求书

1.一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%～10.5%的硝酸铁、0.9%～1.6%的硝酸溶液、13～21%的硫酸溶液和66.9%～79.6%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的银或银合金；

第三步，银或银合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对银或银合金的表面进行抛光。

2.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%的硝酸铁、0.9%的硝酸溶液、13%的硫酸溶液和79.6%的水。

3.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：8%的硝酸铁、1%的硝酸溶液、15%的硫酸溶液和76%的水。

4.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：9%的硝酸铁、1.2%的硝酸、18%的硫酸和71.8%的水。

5.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：10.5%的硝酸铁、1.6%的硝酸、21%的硫酸和66.9%的水。

6.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述研磨机为带振动筒的振动抛光机、涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机或高速离心机。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述研磨辅料为树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉。

8.根据权利要求1至6任意一项所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述硝酸溶液在20℃下的浓度为10%。

9.根据权利要求1至6任意一项所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%。