[发明专利]一种硅料的除杂方法有效
| 申请号： | 201910191402.7 | 申请日： | 2019-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN109734099B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘卿;何亮;陈欣文 | 申请（专利权）人： | 赛维LDK太阳能高科技（新余）有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 338004 *** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 方法 | ||
1.一种硅料的除杂方法，其特征在于，包括：
取待除杂硅料，将所述待除杂硅料和研磨料混合，得到混合料，所述研磨料的硬度大于所述待除杂硅料中杂质的硬度；
将所述混合料进行搅拌，并在所述搅拌的过程中向所述混合料中添加水，所述研磨料可以在水的作用下均匀地分散于所述待除杂硅料的内部，所述研磨料会在所述搅拌的过程中将所述待除杂硅料中的杂质与硅料分离；
将搅拌后的所述混合料进行清洗和分选，得到除杂后的硅料。
2.如权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，所述研磨料和所述待除杂硅料的质量比为(0.1-0.5)：1。
3.如权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，所述研磨料的粒径为50-150目。
4.如权利要求3所述的除杂方法，其特征在于，所述研磨料包括第一研磨料和第二研磨料中的一种或两种。
5.如权利要求4所述的除杂方法，其特征在于，所述第一研磨料的粒径为50-100目，所述第二研磨料的粒径为100-150目。
6.如权利要求4所述的除杂方法，其特征在于，所述研磨料包括所述第一研磨料和所述第二研磨料，所述第一研磨料与所述第二研磨料的质量比为(3-5)：1。
7.如权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，所述研磨料的材质包括氧化铝和碳化硅中的一种或两种。
8.如权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，所述搅拌的时间为10-60min。
9.如权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，所述硅料的除杂方法还包括：
将搅拌后的所述混合料进行清洗和分选，还得到部分未除杂的硅料；
另取所述待除杂硅料，将所述未除杂的硅料、所述待除杂硅料和所述研磨料混合，得到混合物；
将所述混合物进行搅拌，并在所述搅拌的过程中向所述混合物中添加水，所述研磨料会在所述搅拌的过程中将所述待除杂硅料中的杂质去除；
将搅拌后的所述混合物进行清洗和分选，得到除杂后的硅料。
10.如权利要求9所述的除杂方法，其特征在于，所述未除杂的硅料的质量占所述待除杂硅料的质量的1-35％。
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