[发明专利]一种数字光刻的调焦系统及方法有效

专利信息
申请号: 201910192224.X 申请日: 2019-03-14
公开(公告)号: CN109901364B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 徐占辉;张晓辉;刘涛;何李志;邬文灿;尹建刚;高云峰 申请(专利权)人: 大族激光科技产业集团股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 代理人: 黄章辉
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 数字 光刻 调焦 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,包括调焦装置、反射型光调制器、光刻镜头和第二光源;

所述反射型光调制器设置在所述光刻镜头的一焦平面上;

所述调焦装置包括第一光源、分光镜、二向色镜以及光电传感器;

所述分光镜用于将所述第一光源出射的输出光线反射到所述二向色镜上,以及

用于将所述二向色镜反射的测试光线透射到所述光电传感器;

所述二向色镜用于将所述分光镜透射的输出光线反射到所述反射型光调制器,

用于将所述反射型光调制器反射的测试光线反射向所述分光镜,以及用于将所述第二光源的输出光刻光线透射到所述反射型光调制器;

所述反射型光调制器用于将所述二向色镜反射的输出光线反射到所述光刻镜头中,以及用于将所述光刻镜头聚焦的测试光线反射向所述二向色镜;

所述光刻镜头用于将所述反射型光调制器反射的输出光线聚焦到晶圆上,以及用于将晶圆反射的测试光线聚焦至所述反射型光调制器;

设置所述反射型光调制器和晶圆的像面共轭,通过测量测试光线的光强大小来测定所述晶圆和光刻镜头之间的位置。

2.如权利要求1所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,还包括活动平台,所述第二光源、所述反射型光调制器和所述光刻镜头固定不动,所述活动平台用于带动晶圆远离或靠近所述光刻镜头。

3.如权利要求1所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,还包括运动平台,所述运动平台用于将所述第二光源、所述反射型光调制器和所述光刻镜头同步远离或同步靠近晶圆。

4.如权利要求1所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,还包括数据显示器,所述数据显示器包括处理器和显示装置,所述处理器的输入端连接于所述光电传感器的输出端,所述显示装置的输入端连接于所述处理器的输出端。

5.如权利要求4所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,所述数据显示器为电脑或移动终端。

6.如权利要求5所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,所述调焦装置还包括聚光镜,所述聚光镜用于将所述分光镜透射的测试光线聚焦到所述光电传感器。

7.如权利要求1所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,所述光刻镜头为双远心消色差镜头。

8.如权利要求1所述的一种数字光刻的调焦系统,其特征在于,所述调焦装置连接有推动装置,所述推动装置用于控制所述二向色镜远离所述输出光线或控制所述二向色镜活动到所述输出光线上。

9.一种数字光刻方法,其特征在于,包括权利要求1-8任意一项所述的一种数字光刻的调焦系统,还包括以下步骤:

S1:开启第一光源;

S2:调节所述反射型光调制器的局部微反射镜处于“on”状态;

S3:调整所述光刻镜头和晶圆之间的距离并适时读取所述光电传感器的显示数值,直至所述光电传感器的显示数值最大时,晶圆处于光刻基准位置;

S4:关闭所述第一光源,并光刻晶圆。

10.如权利要求9所述的一种数字光刻方法,其特征在于,光刻晶圆的步骤包括:

S5:控制所述反射型光调制器的微镜的角度并开启第二光源,使具有预设投影图像的输出光刻光线照射至晶圆。

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