[发明专利]ESD保护电路以及电子器件有效

专利信息
申请号: 201910193322.5 申请日: 2019-03-14
公开(公告)号: CN111697549B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 陈光;陈捷 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H02H9/04 分类号: H02H9/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 武振华;吴敏
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: esd 保护 电路 以及 电子器件
【说明书】:

一种ESD保护电路以及电子器件,所述ESD保护电路包括:电源端;接地端;泄放通路,包括串联的钳位晶体管以及MOS晶体管,所述钳位晶体管与MOS晶体管集成在同一半导体衬底上且类型不同:所述钳位晶体管的源极、漏极与衬底端之间电连接,且连接至所述电源端;所述MOS晶体管的栅极与衬底端之间电连接;所述MOS晶体管的第一极与所述钳位晶体管的栅极电连接,所述MOS晶体管的第二极与所述接地端连接;其中,当发生ESD时,所述MOS晶体管开启,形成所述钳位晶体管的衬底端与所述第二极之间的寄生电流。本发明方案可以更好的防止泄放通路产生漏电流,避免影响核心器件的品质。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种ESD保护电路以及电子器件。

背景技术

随着半导体制造工艺的快速发展,超薄栅氧化层和薄电介质的器件增多,静电放电(Electro-Static Discharge,ESD)问题逐渐成为芯片故障的主要因素之一。以鳍式场效应晶体管(Fin Field Effect Transistor,FinFET)为例,面对多个鳍式(Fin)结构的高漏电问题,芯片内部的ESD保护电路是不可或缺的。

在现有技术中,已经存在有采用包含有钳位晶体管(Clamp Transistor)的钳位电路(Clamp Circuit)作为ESD保护电路的保护方案,具体地,所述ESD保护电路是通过栅极驱动N型钳位晶体管的有源电路,并且所述钳位晶体管耦接于电源端和接地端之间,用于对核心器件进行保护。

然而,现有的ESD保护电路的电路结构存在局限性,导致性能难以提高。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种ESD保护电路以及电子器件,可以更好的防止泄放通路产生漏电流,避免影响核心器件的品质。

为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种ESD保护电路,包括:电源端;接地端;泄放通路,包括串联的钳位晶体管以及MOS晶体管,所述钳位晶体管与MOS晶体管集成在同一半导体衬底上且类型不同:所述钳位晶体管的源极、漏极与衬底端之间电连接,且连接至所述电源端;所述MOS晶体管的栅极与衬底端之间电连接;所述MOS晶体管的第一极与所述钳位晶体管的栅极电连接,所述MOS晶体管的第二极与所述接地端连接,所述MOS晶体管的第一极为所述MOS晶体管的源极与漏极中的一个,所述MOS晶体管的第二极为所述MOS晶体管的源极与漏极中的另一个;其中,当发生ESD时,所述MOS晶体管开启,形成所述钳位晶体管的衬底端与所述第二极之间的寄生电流。

可选的,所述钳位晶体管为PMOS晶体管,所述MOS晶体管为NMOS晶体管。

可选的,所述的ESD保护电路还包括:第一电容器,所述第一电容器的第一端连接至所述电源端;第一电阻器,所述第一电阻器的第一端连接至所述第一电容器的第二端,所述第一电阻器的第二端连接至所述接地端;所述第一电容器的第二端连接至所述MOS晶体管的衬底端;其中,当发生ESD时,所述第一电容器以及所述第一电阻器触发所述MOS晶体管的衬底端为高电平,以开启所述MOS晶体管。

可选的,所述的ESD保护电路还包括:二极管,所述二极管的第一端连接在所述电阻器与电容器之间,所述二极管的第二端连接至所述接地端。

可选的,所述第一电阻器选自:非硅化物多晶硅电阻器、栅极软连接高NMOS电阻器、栅极软连接低PMOS电阻器、金属寄生电阻器以及高阻值电阻器。

可选的,所述的ESD保护电路还包括:第二电阻器,所述第二电阻器的第一端连接至所述电源端;第二电容器,所述第二电容器的第一端连接至所述第二电阻器的第二端,所述第二电容器的第二端连接至所述接地端;一个反相器或多个串联的反相器,首个反相器的输入端连接至所述电阻器与电容器之间,最后一个反向器的输出端连接至所述MOS晶体管的衬底端;其中,当发生ESD时,所述第二电容器、所述第二电阻器以及所述一个反相器或多个串联的反相器触发所述MOS晶体管的衬底端为高电平,以开启所述MOS晶体管;所述反相器的个数为单数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910193322.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top