[发明专利]一种无公害苦瓜栽培方法

说明书

本发明公开了一种无公害苦瓜栽培方法，涉及蔬菜种植领域，该方法包括以下步骤：挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；将洗净的种子加入水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，抗菌材料包括壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，杀菌剂包括腐殖质；将洗净的种子恒温催芽，待种子破衣后，移至育苗床上进行育苗；待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。本发明能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，比较安全。

技术领域

本发明涉及蔬菜种植领域，具体涉及一种无公害苦瓜栽培方法。

背景技术

苦瓜又名凉瓜，是葫芦科植物，也是人们喜爱的一种蔬菜，在我国南方被作为主要经济作物广泛种植，

苦瓜具有清热解暑、消肿解毒的功效，苦瓜中含有多种抗氧化的物质，可以强化毛细血管，促进血液循环，预防动脉硬化，国外学者研究报道苦瓜具有降血糖、抗菌、消炎、抗病毒、提高机体免疫力及堕胎、抗生育等作用，而特别是对苦瓜在防肿瘤方面所起的作用更为关注。

目前苦瓜大多通过大棚种植，由于种植过程中植株密度较高，且种植品种单一，容易产生疫病并快速传染，此时瓜农主要通过施用大量农药控制病情，容易造成苦瓜中农残较高，不仅造成苦瓜的经济价值下降，而且对食用者有身体健康产生危害。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种无公害苦瓜栽培方法，能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，比较安全。

为达到以上目的，本发明采取的技术方案是：

一种无公害苦瓜栽培方法，包括以下步骤：

S1、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；

S2、将洗净的种子加入温度为25～35℃、pH为6～8的水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.002～0.008，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.1～1:0.001～0.005的壳聚糖、明胶和脂质体构成；

S3、将洗净的种子放在温度为30～35℃、湿度为60～80％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24～25℃、湿度为40～60％，待种芽生长至0.3～0.7cm，移至育苗床上进行育苗；

S4、待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。

在上述技术方案的基础上，所述育苗床包括厚度为10～15cm的营养土，所述营养土上覆盖有厚度为3～5cm的细沙，所述营养土包括25～55份草木灰、6～12份腐殖酸、1～5甲壳素。

在上述技术方案的基础上，所述营养土包括30～45份草木灰、8～10份腐殖酸、2～3甲壳素。

在上述技术方案的基础上，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.004～0.006。

在上述技术方案的基础上，所述气体释放载体为过氧化钙或碳酸氢钠。

在上述技术方案的基础上，所述壳体结构采用质量比为1:0.3～0.6:0.02～0.004的壳聚糖、明胶和脂质体构成。

在上述技术方案的基础上，所述壳体结构采用质量比为1:0.5:0.03的壳聚糖、明胶和脂质体构成。

在上述技术方案的基础上，种芽在育苗床上育苗时，育苗床白天温度控制在18～22℃，夜间温度控制在16～18℃。