[发明专利]磊晶制程系统和其自动传送方法

说明书

本发明是磊晶制程系统和其自动传送方法。所述磊晶制程系统提供反应模块、传送模块和载入/载出模块，传送模块和载入/载出模块分别具有二个暂存机构，放置未经磊晶反应的晶圆的承载盘由载入/载出模块的二个暂存机构之一或该传送模块的一个暂存机构被挪移至反应模块的反应腔体处以搭配顶棚进行磊晶反应，如此借由传送模块于反应模块、传送模块和载入/载出模块之间自动传送承载盘和顶棚。

技术领域

本发明是关于一种磊晶形成设备的领域，特别是关于一种磊晶手套箱设备和其自动传送方法。

背景技术

一般的磊晶制程机台包括反应模块、传送模块和载入/载出模块，晶圆可被传送模块传递于反应模块和载入/载出模块之间。由于磊晶成长反应时间长，且需经过渐进的降温过程以避免损害磊晶层，故，如何兼顾降低机台停机时间和晶圆的磊晶品质是磊晶制程重要的课题之一。

发明内容

本发明提供一种磊晶制程系统和其自动传送方法，其仅使用三个模块即可构成具有自动传送功能的系统架构，解决现有习知需额外设置暂存区模块的设计，可减少占地面积(foot print)和降低机台设备的成本。

本发明提供一种磊晶制程系统和其自动传送方法，其在传送模块(TransferModule,TM)和载入/载出模块(Load Lock Module,LLM)处分别设置两个暂存空间，即可在磊晶制程机台中进行承载盘(susceptor)和顶棚(ceiling)的循环交换，减少机台的停机(downtime)，增加机台使用效率。

本发明提供一种磊晶制程系统和其自动传送方法，其仅使用三个模块即可构成具有自动传送功能，模块内设置归位机构可进行个模块间的相互定位校准，增加机台作动时的准确度。

依据上述，一种磊晶制程系统，包括：反应模块(RM)包含反应腔体，承载盘(susceptor)和顶棚(ceiling)容置于该反应腔体中以协助该承载盘中的至少一个晶圆(wafer)进行磊晶反应；传送模块(TM)，包括第一暂存机构(stage)(T2)与第二暂存机构(T1)，其中，该第一暂存机构提供置放该承载盘之用，该第二暂存机构提供置放该顶棚之用；载入/载出模块(LLM)，包括载入/载出腔体以及第三暂存机构(L2)容置于该载入/载出腔体中，该第三暂存机构提供置放该承载盘或该顶棚之用；以及第四暂存机构(L1)置于该载入/载出腔体下方并提供置放该承载盘或该顶棚之用；其中，放置未经磊晶反应的该晶圆的该承载盘由该第三暂存机构、该第四暂存机构以及该第一暂存机构三者之一被挪移至该反应腔体处。

前述的磊晶制程系统，其中，该承载盘和该顶棚在处于真空氛围下的该反应腔体中进行该磊晶反应；反应后，该承载盘和该顶棚在处于氮气氛围下的该反应模块中、该传送模块上或该载入/载出模块上进行降温或清净。

前述的磊晶制程系统，更包括第一闸阀机构设置于该反应腔体和容置该第一暂存机构与该第二暂存机构的氮气盒之间，以隔绝该反应腔体和该传送模块。

前述的磊晶制程系统，其中，该第一暂存机构和该第二暂存机构以上下层的位置关系位于该氮气盒的一角落或一边处，或该第一暂存机构和该第二暂存机构位于该氮气盒的不同边处。

前述的磊晶制程系统，更包括第二闸阀机构设置于该氮气盒和该载入/载出腔体之间，以隔绝该传送模块和该载入/载出腔体。

前述的磊晶制程系统，其中，该第四暂存机构设置于与该传送模块氮气盒相通的空间中或于该氮气盒中。

前述的磊晶制程系统，其中，该第一暂存机构和该第二暂存机构分别包括多个底座，且任一该多个底座的边缘设有承靠该承载盘或该顶棚的陶瓷件或石墨件。

前述的磊晶制程系统，其中，该第一暂存机构和该第二暂存机构分别是固定式或可动式的。

前述的磊晶制程系统，其中，该第三暂存机构与该第四暂存机构分别为多个陶瓷件或多个石墨件。