[发明专利]一种显示基板的制备方法及显示基板在审
| 申请号： | 201910199640.2 | 申请日： | 2019-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN109782477A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 董立文;宋吉鹏;张锋;孟德天 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 树脂层 挡板 显示基板 硬化层 基板 制备 镂空结构 等离子刻蚀 等离子装置 有效反射面 楔形结构 反光层 反射面 基板沿 沉积 平行 平整 背离 | ||
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
提供基板，并在所述基板上依次形成树脂层和硬化层；所述树脂层设置在所述基板和所述硬化层之间；
在面向所述硬化层的一侧放置挡板；所述挡板上设置有多个镂空结构；其中，所述镂空结构在平行于所述挡板的第一方向上的宽度不同；
使所述挡板或所述基板沿所述第一方向往复移动；
在所述挡板背离所述基板的一侧使用等离子装置对所述硬化层和树脂层进行等离子刻蚀，获得具有楔形结构的树脂层；
在所述树脂层上沉积反光层，得到所述显示基板。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在在所述挡板背离所述基板的一侧使用等离子装置对所述硬化层和树脂层进行等离子刻蚀，获得具有楔形结构的树脂层，包括：
在所述挡板背离所述基板的一侧使用等离子装置进行等离子刻蚀，直到所述硬化层刻蚀出楔形结构；
移除所述挡板，继续进行等离子刻蚀，直到获得具有所述楔形结构的树脂层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述镂空结构包括等腰三角形；其中，所述等腰三角形的底边所在的方向为所述第一方向。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硬化层的材料包括：二氧化硅或氮化硅。
5.一种显示基板，其特征在于，包括：基板和反射层；
其中，反射层设置在所述基板上；所述反射层包括多个楔形结构。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述楔形结构的斜面为平面或者曲面，且与所述基板呈预设夹角。
7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述预设夹角包括：7°-12°。
8.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述楔形结构的高度包括：1μm-3μm。
9.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述反射层包括：树脂层和反光层；所述树脂层设置在所述基板和所述反光层之间。
10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述反光层的材料为A1或Ag。
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