[发明专利]原子腔结构及其制作方法

权利要求书

1.一种原子腔结构，其特征在于，所述原子腔结构包括：

基片(1)，具有封闭的腔(A)；

至少三组反射结构(2)，所述反射结构(2)设置于所述腔(A)的内壁上，所述反射结构(2)至少用于对射入所述腔(A)内的相应的第一光线进行反射，从而使所有的所述第一光线与射入所述腔(A)内的第二光线在所述腔(A)内正交后射出所述腔(A)外。

2.根据权利要求1所述的原子腔结构，其特征在于，所述反射结构(2)包括彼此相对的第一反射面(21)和第二反射面(22)，所述第一光线在被所述第一反射面(21)反射到所述第二反射面(22)的光程中与所述第二光线正交。

3.根据权利要求2所述的原子腔结构，其特征在于，所述基片(1)包括：硅片(11)、第一透光片(12)和第二透光片(13)；

所述硅片(11)包括相对且平行的第一表面(11a)和第二表面(11b)以及贯穿所述第一表面(11a)和所述第二表面(11b)的通孔(11c)，所述第一透光片(12)设置于所述第一表面(11a)上并封闭所述通孔(11c)在所述第一表面(11a)上的开口，所述第二透光片(13)设置于所述第二表面(11b)上并封闭所述通孔(11c)在所述第二表面(11b)上的开口，从而形成封闭的所述腔(A)。

4.根据权利要求3所述的原子腔结构，其特征在于，所述第一反射面(21)和所述第二反射面(22)平行，所述第一反射面(21)和所述第二反射面(22)之间的距离公式为：

其中H为所述第一反射面(21)和所述第二反射面(22)之间的距离，W为所述第一光线的射入光段与射出光段之间的距离，θ为所述第一反射面(21)与所述第一表面(11a)之间的锐角角度或者所述第二反射面(22)与所述第二表面(11b)之间的锐角角度；

或者所述第一反射面(21)和所述第二反射面(22)延伸垂直相交。

5.根据权利要求2所述的原子腔结构，其特征在于，所述基片(1)包括：硅片(11)和第三透光片(14)；

所述硅片(11)包括相对且平行的第一表面(11a)和第二表面(11b)以及凹槽(11d)，所述第三透光片(14)设置于所述第二表面(11b)并封闭所述凹槽(11d)在所述第二表面(11b)上的开口，从而形成封闭的所述腔(A)。

6.根据权利要求5所述的原子腔结构，其特征在于，所述第一反射面(21)和所述第二反射面(22)朝向所述第三透光片(14)；其中，所述第一反射面(21)和所述第二反射面(22)延伸垂直相交。

7.根据权利要求1-6任一所述的原子腔结构，其特征在于，所述第一光线和所述第二光线射入或射出所述腔(A)的方向垂直于所述基片(1)。

8.一种原子腔结构的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

在硅片(11)中形成贯穿第一表面(11a)和第二表面(11b)的通孔(11c)，所述第一表面(11a)和所述第二表面(11b)相对且平行；

将第一透光片(12)设于所述第一表面(11a)上并封闭所述通孔(11c)在所述第一表面(11a)上的开口；

在所述通孔(11c)的内壁上装配多个反射结构(2)；

通过所述通孔(11c)在所述第二表面(11b)上的开口向所述通孔(11c)内注入特定物质；

将第二透光片(13)设于所述第二表面(11b)上并封闭所述通孔(11c)在所述第二表面(11b)上的开口。