[发明专利]一种NiZn铁氧体薄膜的制备方法有效
申请号: | 201910202780.0 | 申请日: | 2019-03-18 |
公开(公告)号: | CN109852929B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 孙科;闫妍;郭荣迪;余忠;蒋晓娜;兰中文;邬传健 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/34;C23C14/35;C23C18/12;C23C28/04 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 吴姗霖 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 nizn 铁氧体 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种NiZn铁氧体薄膜的制备方法,包括以下步骤:
步骤1、采用旋转喷涂法在基片上沉积NiZn铁氧体种子层;
1.1将二价铁盐、可溶性镍盐和可溶性锌盐加入去离子水中,配制得到还原液;其中,二价铁盐的浓度为1.3~1.6g/L,可溶性镍盐的浓度为0.2~0.3g/L,可溶性锌盐的浓度为0.08~0.10g/L;
1.2将亚硝酸盐和乙酸盐加入去离子水中,混合均匀,得到氧化液;其中,亚硝酸盐的浓度为0.1~0.2g/L,乙酸盐的浓度为1.3~1.4g/L,亚硝酸盐为亚硝酸钠或亚硝酸钾,乙酸盐为乙酸钠或乙酸钾;
1.3在基片上沉积NiZn铁氧体种子层:首先,分别将步骤1.1得到的还原液和步骤1.2得到的氧化液雾化为粒径为30~40μm的液滴;然后,将还原液与氧化液分别经两个喷嘴同时喷射至放置于旋转平台上的基片上,还原液与氧化液的喷射流量均为10~20ml/min,在旋转平台转速为80~120rpm、温度为90~150℃的条件下喷涂,得到厚度为50~200nm的NiZn铁氧体种子层;
步骤2、采用溅射法在步骤1得到的NiZn铁氧体种子层上沉积NiZn铁氧体薄膜;其中,溅射靶材为NiyCu0.1Zn0.9-yFe2O4铁氧体靶材,0.2y0.3,背底真空为3.0×10-4~4.0×10-4Pa,溅射气体为惰性气体,溅射气压为1.2~1.6Pa,溅射功率为120~150W,基片温度为100~300℃,得到的NiZn铁氧体薄膜厚度为500nm~700nm;完成所述NiZn铁氧体薄膜的制备。
2.根据权利要求1所述的NiZn铁氧体薄膜的制备方法,其特征在于,步骤1.1所述二价铁盐为氯化亚铁或硝酸亚铁,所述可溶性镍盐为氯化镍或硝酸镍,所述可溶性锌盐为氯化锌或硝酸锌。
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