[发明专利]一种同步脱氮除磷氧化沟及其强化脱氮的工艺方法有效
申请号: | 201910202953.9 | 申请日: | 2019-03-18 |
公开(公告)号: | CN109987702B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 于鹏飞;施恩;何亚婷 | 申请(专利权)人: | 沈阳建筑大学 |
主分类号: | C02F3/30 | 分类号: | C02F3/30;C02F101/10;C02F101/16 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 马海芳 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 同步 氧化 及其 强化 工艺 方法 | ||
一种同步脱氮除磷氧化沟及其强化脱氮的工艺方法,属于污水处理技术领域。该同步脱氮除磷氧化沟,包括外墙、隔墙、导流墙和出水渠,外墙内设置有隔墙将所述的同步脱氮除磷氧化沟内部分为多个反应区,包括依次串联、首尾连接的第一好氧区、第一缺氧区、第二好氧区、第二缺氧区、第三好氧区、第三缺氧区和厌氧区;在反应区的转弯处设置有导流墙,在第三好氧区的外墙上设置有出水渠;其方法为:采用进水管向不同区进水,按照分气流量分配率进行进气,开启曝气,各个分水管的水通过反复的硝化、反硝化和排泥,进行脱氮除磷。该方法采用生物除氮原理,具有脱氮效果好、流程短、自动化程度高的优点。
技术领域
本发明属于污水处理技术领域,具体涉及一种同步脱氮除磷氧化沟及其强化脱氮的工艺方法。
背景技术
近年来,我国经济快速发展,政府和民众的环境保护意识持续增强,与之相应,我国废水处理能力高速发展。依据相关部门发布的数据显示,我国小、中、大和超大型污水处理厂的COD平均去除率分别为81%、85.5%、87.5%和86.5%。由于进水COD浓度一般小于350mg/L(南方个别城市甚至小于200mg/L),COD处理效果己经达标(一级B标准出水COD浓度为60mg/L)。换言之,我国废水处理的主要矛盾已从COD去除转移到氮素污染控制,尤其是总氮控制。
氧化沟(OxidationDitch)工艺,又称氧化渠,是一种基于活性污泥法的变形工艺,外形呈封闭环状沟,其特点是混合液在沟内不中断地循环流动,形成厌氧、缺氧和好氧段,从而使污水中的有机物得到去除。氧化沟污水处理的整个过程如进水、曝气、沉淀、污泥稳定和出水等全部集中在氧化沟内完成,所产生的微生物污泥在污水曝气净化的同时得到稳定,不需设置初沉池和污泥硝化池,处理设施大大简化。不仅各国环境保护机构非常重视,而且世界卫生组织(WHO)也非常重视。在美国已建成的污水处理厂有几百座,欧洲已有上千座。在我国,氧化沟技术的研究和工程实践始于上世纪70年代,氧化沟工艺以其经济简便的突出优势已成为中小型城市污水厂的首选工艺。
但是现有氧化沟工艺,特别是在除氮过程中存在的问题有:
(1)现有氧化沟多采用表面曝气形式,表面曝气式氧化沟的有效水深较小,水深的增加会造成氧化沟上部流速较大,而底部流速很小,致使沟底大量积泥,降低了处理效果;另外,表面曝气机在运转时容易溅起较大的水花或水雾,一方面侵蚀了轴承座、电机甚至电气控制部分,另一方面又污染了氧化沟两边的走道;并且表面曝气能耗大,推流动力小,过度搅拌水面,热量流失多,引起水温下降较快,尤其在北方,冬季水温在10℃左右,严重影响了污染物的去除;
(2)现有氧化沟均为单点进水,当反应池为单点曝气时,在反应池内仅形成一组厌氧、缺氧和好氧段,对氮,特别是总氮的去除效果差;当反应池为多点曝气时,其余缺氧段缺乏碳源,反硝化不彻底,氮的处理效果不理想。
发明内容
本发明提供了一种同步脱氮除磷氧化沟及其强化脱氮的工艺方法,该工艺采用生物除氮原理,具有脱氮效果好、流程短、自动化程度高的优点,并且还克服了现有氧化沟运行时污染环境、低温时效率低、池浅、脱氮效果不理想的缺点。
本发明的技术方案如下:
本发明的一种同步脱氮除磷氧化沟,包括外墙、隔墙、导流墙和出水渠,外墙内设置有隔墙将所述的同步脱氮除磷氧化沟内部分为多个反应区,包括依次串联、首尾连接的第一好氧区、第一缺氧区、第二好氧区、第二缺氧区、第三好氧区、第三缺氧区和厌氧区;在反应区的转弯处设置有导流墙,在第三好氧区的外墙上设置有出水渠;
所述的同步脱氮除磷氧化沟还包括进水总管、第一进水分水管、第二进水分水管、第三进水分水管、回流污泥管、出水管、空气总管、第一空气分气管、第二空气分气管、第三空气分气管、放空管、一体式潜水曝气推流机、第一曝气系统和第二曝气系统;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳建筑大学,未经沈阳建筑大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910202953.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。