[发明专利]天线波束宽度的控制方法、装置、设备和存储介质有效

专利信息
申请号: 201910203351.5 申请日: 2019-03-18
公开(公告)号: CN110277645B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 费阿莉;刘海勇 申请(专利权)人: 西安天伟电子系统工程有限公司
主分类号: H01Q3/34 分类号: H01Q3/34;H01Q3/26;G01S13/02;G01S7/02
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 朱五云;孙岩
地址: 710075 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 天线 波束 宽度 控制 方法 装置 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种天线波束宽度的控制方法,其特征在于,所述天线的工作阵面包括相邻的n个天线单元,所述方法包括:

获取所述n个天线单元中的每个天线单元的场方向图对应的幅度值和初始相位值,所述n为大于1的整数;

从所述n个天线单元中任意选取一个天线单元作为相位参考单元;

以所述相位参考单元为相位参考点,对所述每个天线单元的场方向图对应的初始相位值进行转换,得到所述每个天线单元的场方向图对应的相对相位值;

根据所述每个天线单元的场方向图对应的所述幅度值和所述相对相位值,确定所述每个天线单元对应的目标激励相位值;

所述根据所述每个天线单元的场方向图对应的所述幅度值和所述相对相位值,确定所述每个天线单元对应的目标激励相位值,包括:

根据所述每个天线单元的场方向图对应的所述幅度值和所述相对相位值,采用优化算法,确定目标函数的损失值达到预设阈值时的每个天线单元对应的目标激励相位值,所述目标函数的损失值用于表示所述工作阵面形成的期望场方向图与所述工作阵面形成的实际场方向图之间的差距;其中,所述期望场方向图为工作波束的宽度到达期望的宽度,提高相邻工作波束交叠区域的信号电平的方向图;所述目标函数为:

F=-a1×10×log10(FSLL/MLL)+a2×(60-2×HPBW);

其中,a1和a2为权值系数,FSLL为工作阵面形成的实际场方向图中副瓣电平的最大值,MLL为工作阵面形成的实际场方向图中主瓣电平的最大值,HPBW为工作阵面形成的实际场方向图中工作波束的宽度,F为目标函数的损失值。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述从所述n个天线单元中任意选取一个天线单元作为相位参考单元,包括:

从所述n个天线单元中选取所述工作阵面的对称中心所对应的天线单元作为所述相位参考单元。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述每个天线单元的场方向图对应的所述幅度值和所述相对相位值,采用优化算法,确定目标函数的损失值达到预设阈值时的每个天线单元对应的目标激励相位值,包括:

根据所述每个天线单元的场方向图对应的所述幅度值和所述相对相位值,确定所述工作阵面形成的实际场方向图;

根据所述实际场方向图,确定目标函数的损失值;

当所述目标函数的损失值未达到预设阈值时,采用优化算法调整所述每个天线单元对应的当前激励相位值,并继续执行所述根据所述每个天线单元的场方向图对应的所述幅度值和所述相对相位值,确定所述工作阵面形成的实际场方向图,直至所述目标函数的损失值达到所述预设阈值;

将所述目标函数的损失值达到所述预设阈值时所对应的当前激励相位值确定为所述每个天线单元的目标激励相位值。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

根据所述每个天线单元对应的目标激励相位值和所述每个天线单元对应的收发组件的相位偏差值,确定所述每个天线单元对应的最终目标激励相位值,所述最终目标激励相位值为校正后的所述目标激励相位值。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述天线为圆柱形、圆锥形、圆环形或者半球面形共形相控阵天线。

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