[发明专利]电子装置

说明书

本发明提供了包括基板与光学板的一种电子装置。光学板相对于基板设置，且包括有多条偏极化线形成于其中的光学区域。光学区域在510纳米到550纳米的光波长范围中的光穿透率范围为34％到57％，或光学区域在610纳米到650纳米的光波长范围中的光穿透率范围为37％到57％。

技术领域

本发明涉及一种电子装置，特别是涉及一种包括偏极化线的电子装置。

背景技术

电子装置，例如液晶显示器(liquid crystal device,LCD)或其它功能性电子装置，包含有用以驱动装置中例如像素的功能性单元的阵列电路。目前已知的是，阵列电路中的扫描线、数据线或晶体管在制造过程中可能会产生缺陷。缺陷会使得功能性单元表现出不适当的结果。因此，需要使用激光修补制程。

然而，传统黏着在电子装置外表面上的偏光片的光穿透率不佳，使得修补激光的强度会因此下降。此外，在高温及高湿下，传统偏光片会产生气泡。因此，需要一种新颖的偏极化设计。

发明内容

根据一实施例，本发明提供了一种包括基板与光学板的电子装置。光学板相对于基板设置，且包括具有多条偏极化线形成于其中的光学区域。光学区域在510纳米到550纳米的光波长范围中的光穿透率范围为34％到57％。

根据另一实施例，本发明提供了一种包括基板与光学板的电子装置。光学板相对于基板设置，且包括具有多条偏极化线形成其中的光学区域。光学区域在610纳米到650纳米的光波长范围中的光穿透率范围为37％到57％。

在阅读了下文绘示有各种附图的实施例的详细描述之后，对于本领域的技术人员来说，应可清楚明了本发明的目的。

附图说明

图1为本发明第一实施例的电子装置的剖视示意图。

图2为本发明第一实施例的电子装置的透视分解示意图。

图3为本发明第一实施例的第一变化实施例的显示设备的透视分解示意图。

图4示出了根据本发明测量光学区域光穿透率的方法。

图5为本发明第一实施例的第二变化实施例的显示设备的透视分解示意图。

图6为本发明第一实施例的第三变化实施例的光学板的剖视示意图。

图7为本发明第二实施例的显示设备的剖视示意图。

图8为本发明第二实施例的一变化实施例的光学板的剖视示意图。

图9为本发明第三实施例的显示设备的光学板的剖视示意图。

图10为本发明第四实施例的显示设备的光学板的剖视示意图。

图11为本发明第五实施例的显示设备的光学板的剖视示意图。

附图标记说明：102A、102B、Sub-基板；104A、104C、104K、204A、204B、604、704-光学板；106A、106C、206B、506、606、706-偏极化线；10A、10B、10C、20、60、70-显示设备；110、510、710-平坦层；204R-光学区域；228、528、628、728-第一颜色转换层；230、530、630、730-第二颜色转换层；634-第一半穿反层；636、736-第二半穿反层；738-遮光块状物；AP-开口；BM-黑色矩阵；C1-第一偏极化线；CC1-第一颜色转换区域；CC2-第二颜色转换区域；CL-共同线；D1-第一方向；D2-第二方向；DL-数据线；LU-发光单元；MLA、MLB-金属层；MR-测量区；OP1-第一分隔区域；OP2-第二分隔区域；OP3-第三分隔区域；PE-像素电极；PL、PL1-防护层；PX-像素；S1、S1A、S1B-间距；SL-扫描线；T1-厚度；TD-厚度方向；Tr-晶体管；W1-宽度。

具体实施方式