[发明专利]一种改性PMMA光学薄膜

说明书

本发明提供一种改性PMMA光学薄膜，所述改性PMMA光学薄膜包括以下质量份数的成分：PMMA树脂60～80份，芳香族(共)聚碳酸酯20～40份，增容剂5～14份，流平剂0.5～8份，该改性PMMA光学薄膜表面平整、光滑、厚度均匀，透光率高，雾度低，无色透明，具有良好的耐热性和韧性。本发明还提供一种改性PMMA光学薄膜的制备方法，包括：依次制备改性树脂、改性涂布液、涂布成膜、热拉伸成型等步骤，该方法工艺简单，易于实现工业化生产，可以制备超薄高透的改性PMMA光学薄膜。

技术领域

本发明涉及光学薄膜领域，具体涉及一种PMMA光学薄膜。

背景技术

PMMA具有非常高的透光率、极低的吸光率、较高的机械强度和良好的化学稳定性，是最理想的光学材料之一。但传统PMMA树脂的玻璃化转变温度小于110℃，耐高温性差，硬度高、韧性很差，在加工工程中极易脆裂，无法实现超薄化。PC树脂也是常用的光学材料，透光率较高，玻璃化转变温度较高，PC与PMMA共混后，能够明显提高PMMA薄膜的韧性和耐高温性，并降低吸水率。然而，一方面，PMMA和PC非完全相容体系，存在界面分离，溶液法制备的薄膜呈半透明状甚至白色，无法达到光学薄膜的使用要求。另一方面，PMMA和PC的特性粘度相差较大，PC在有机溶剂中的溶解度较低，溶解速度慢，PMMA和PC的共混物在涂布时难以分散均匀，流平性差，成膜后薄膜的平整度较差,厚度不均匀。

发明内容

如无特殊说明，本发明中的“份”均指“质量份”。

针对现有技术存在的问题，本发明提供一种改性PMMA光学薄膜，该改性PMMA光学薄膜表面平整、光滑、厚度均匀，透光率高，雾度低，呈透明状，具有良好的耐热性、耐折性和较高的断裂伸长率；本发明还提供一种改性PMMA光学薄膜的制备方法，该方法工艺简单，易于实现工业化生产，可以制备超薄的改性PMMA光学薄膜。

一种改性PMMA光学薄膜，包括以下质量份数的成分：PMMA树脂60～80份，芳香族(共)聚碳酸酯20～40份，增容剂5～14份，流平剂0.5～8份。

优选所述改性PMMA光学薄膜，包括以下质量份数的成分：PMMA树脂65～75份，芳香族(共)聚碳酸酯15～25份，增容剂8～12份，流平剂2～5份。

所述改性PMMA光学薄膜的厚度为5～100μm；优选所述改性PMMA光学薄膜的厚度为10～60μm。

所述PMMA树脂为挤出级聚甲基丙烯酸甲酯，熔融指数为1～10g/10min(230℃，2.16kg)，数均分子量Mn＝20000～200000g/mol；优选所述PMMA树脂的熔融指数为2～4g/10min(230℃，2.16kg)，数均分子量Mn＝40000～80000g/mol。

所述芳香族(共)聚碳酸酯包括光气界面缩聚法、熔融交换缩聚法、非光气酯交换熔融缩聚法或环化聚合物开环方法合成的芳香族聚碳酸酯和/或芳香族聚碳酸共聚物。

所述芳香族(共)聚碳酸酯包含1,1-双(4-羟基苯基)环己烷、4,4'-(1,4-亚苯基二异丙基)二苯酚、4,4二羟基二苯基甲烷结构单元中的至少一种。

所述芳香族(共)聚碳酸酯还可以包含萘酚、联苯、联苯二酚、双酚芴、苯砜、环己烷等结构单元中的一种，例如2,2-双(4-羟基苯基)丙烷、4,4-联苯二酚、3,3',5,5'-四叔丁基-2,2”-联苯二酚、5,5',6,6'-四甲基-3,3'-二-叔丁-1,1'-联苯-2,2'-二醇、S-1,1'-联-2-萘酚、R-1,1'-联-2-萘酚、2,2'-双(4-羟基苯基)六氟丙烷、9,9'-二(4-羟基苯基)芴、4,4'-(1-苯乙基)双酚、4,4'-二羟基二苯砜、1-双(4-羟苯基)-3,3',5-三甲基环己烷等结构单元。