[发明专利]光栅成像系统的信息提取方法及提取装置有效

专利信息
申请号: 201910207542.9 申请日: 2019-03-18
公开(公告)号: CN109785406B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 张丽;陈志强;高河伟;李新斌;邢宇翔;吴承鹏 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光栅 成像 系统 信息 提取 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种光栅成像系统的信息提取方法,其特征在于包括:

获取来自光栅成像系统中的物体位移曲线与背景位移曲线;

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们各自的积分或者总和,并根据物体位移曲线积分或者总和与背景位移曲线积分或者总和的比值确定散射角的零阶矩,从而确定吸收信息;

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们各自的积分或者总和,并根据物体位移曲线积分或者总和与背景位移曲线积分或者总和的比值确定散射角的零阶矩,包括:

采用如下公式确定散射角α的零阶矩M0

其中,T为物体位移曲线s(α)和背景位移曲线f(α)的周期,取变量

所述的方法还包括:

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们与多阶正弦、余弦函数乘积的积分或总和,从而进行级数求和,确定一阶矩,从而确定相衬信息;

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们与多阶正弦、余弦函数乘积的积分或总和,从而进行级数求和,确定一阶矩,从而确定相衬信息,包括:

采用如下公式确定散射角α的一阶矩M1

其中:

其中,T为物体位移曲线s(α)和背景位移曲线f(α)的周期,取变量d为成像系统中相位光栅和分析光栅的间距,n为任意自然数,p2为成像系统中分析光栅的周期;

所述的方法还包括:

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们与多阶正弦、余弦函数乘积的积分,从而计算级数求和,确定二阶矩,从而确定暗场信息;

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们与多阶正弦、余弦函数乘积的积分,从而计算级数求和,确定二阶矩,从而确定暗场信息,包括:

采用如下公式确定散射角α的二阶矩M2

其中,T为物体位移曲线s(α)和背景位移曲线f(α)的周期,取变量d为成像系统中相位光栅和分析光栅的间距,p2为光栅成像系统中分析光栅的周期;

所述一阶矩M1的确定公式中,2阶及以上的部分被忽略不计,调整确定M1的公式为:

其中,上式在运算过程中,

其中,k为任意大于等于2的自然数,φ为任意实数,d为成像系统中相位光栅和分析光栅的间距,p2为成像系统中分析光栅的周期;

所述二阶矩M2的确定公式中,2阶及以上的部分被忽略不计,调整确定M2的公式为:

其中,上式在运算过程中,

其中,k为任意大于等于2的自然数,φ为任意实数,d为成像系统中相位光栅和分析光栅的间距,p2为成像系统中分析光栅的周期。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们与多阶正弦、余弦函数乘积的积分,从而计算级数求和,确定三阶以上阶矩,从而确定与之对应的物理信息。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据物体位移曲线与背景位移曲线,计算它们与多阶正弦、余弦函数乘积的积分,从而计算级数求和,确定三阶以上阶矩,从而确定与之对应的物理信息,包括:

采用如下公式确定散射角α的n阶矩Mn

其中,n为3以上的自然数,T为物体位移曲线s(α)和背景位移曲线f(α)的周期,取变量xn,x∈[-π,π]可以用傅里叶级数展开,从而获得上式的级数解析表达式。

4.一种光栅成像系统的信息提取装置,其特征在于,包括:

处理器;

存储器,其上存储有可在所述处理器上运行的计算机程序;其中所述计算机程序被所述处理器执行时实现权利要求1-3所述的方法步骤。

5.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有数据处理程序,所述数据处理程序被处理器执行时实现权利要求1-3所述的方法步骤。

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