[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品在审

专利信息
申请号: 201910209111.6 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN111716935A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 张宝利;朱军 申请(专利权)人: 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司
主分类号: B42D25/324 分类号: B42D25/324;B42D25/328
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;王晓晓
地址: 100070 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光学 防伪 元件 产品
【权利要求书】:

1.一种光学防伪元件,该光学防伪元件包括:

基层;

位于所述基层上的颜色功能层,所述颜色功能层包括第一微浮雕结构及同形覆盖所述第一微浮雕结构表面的第一镀层;

覆盖所述颜色功能层的第一区域的至少一部分的第二微浮雕结构,所述第一区域为所述颜色功能层的部分区域;以及

仅同形覆盖所述第二微浮雕结构表面的第二镀层;

所述第二微浮雕结构被定义成当光束以一入射角照射所述第二微浮雕结构时,该光束中一波长或波长范围的光在反射光方向上干涉相长。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,所述光学防伪元件还包括:

覆盖在所述颜色功能层的除所述第一区域之外的第二区域上的第三微浮雕结构,所述第二微浮雕结构的表面积与表观面积的比值小于所述第三微浮雕结构的表面积与表观面积的比值。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件,所述光学防伪元件还包括:

覆盖在所述颜色功能层的除所述第一区域之外的第二区域上的第三微浮雕结构,所述第二微浮雕结构的起伏高度小于所述第三微浮雕结构的起伏高度。

4.根据权利要求1至3中任意一项权利要求所述的光学防伪元件,其中,

所述第一微浮雕结构包括以下一者或多者:全息衍射结构、反射型结构、亚微米结构、或者与所述第二微浮雕结构的结构功能相同的干涉型微结构;或者

所述第一微浮雕结构包括以下表面浮雕结构中的一者或多者:一个或多个连续曲面型结构、一个或多个矩形结构、一个或多个锯齿型棱镜、或它们的拼接或组合。

5.根据权利要求1至3中任意一项权利要求所述的光学防伪元件,其中,

所述第一镀层为干涉型多层膜结构,所述干涉型多层膜结构形成法布里-泊罗谐振腔;或者

所述第一镀层为由金属油墨或光变油墨组成。

6.根据权利要求5所述的光学防伪元件,其中,所述干涉型多层膜结构包括以下一者:由吸收层、低折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层,其中该反射层或吸收层与所述第一表面浮雕结构层相接触;由高折射率介质层、低折射率介质层和高折射率介质层依次堆叠形成的镀层;以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层,其中该反射层或吸收层与所述第一表面浮雕结构层相接触。

7.根据权利要求1至3中任意一项权利要求所述的光学防伪元件,其中,所述第二微浮雕结构的至少一部分的深度满足以下条件:

当所述光束以一入射角照射所述第二微浮雕结构的至少一部分时,该光束通过该第二微浮雕结构的至少一部分后,该光束中一波长或波长范围的光在反射光方向上干涉相长,由此所述光学防伪元件的至少一部分在反射光方向上呈现第一颜色。

8.根据权利要求7所述的光学防伪元件,其中,所述第二微浮雕结构的至少一部分的图案为以下中的至少一种或任意组合:

所述第二微浮雕结构的浮雕单元随机或伪随机分布;

所述第二微浮雕结构的浮雕单元在一个方向随机或伪随机分布;以及

所述第二微浮雕结构的浮雕单元在第一方向周期分布,在第二方向随机或伪随机分布。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件,其中,在所述第二微浮雕结构的至少一部分的图案为所述第二微浮雕结构的至少一部分的浮雕单元随机或伪随机分布的情况下,该第二微浮雕结构的至少一部分的特征尺寸为0.3μm-6μm,优选为0.6μm-3μm,该微浮雕结构的至少一部分的深度还满足以下条件:

当所述光束以一入射角照射所述第二微浮雕结构的至少一部分时,所述光学防伪元件的至少一部分在散射光方向上呈现第二颜色。

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