[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：

基层；

位于所述基层表面上且至少部分覆盖所述基层的微浮雕结构，该微浮雕结构的至少一部分的深度满足以下条件：当光束以一入射角照射所述微浮雕结构的至少一部分时，该光束通过该微浮雕结构的至少一部分后，该光束中一波长或波长范围的光在反射光方向上干涉相长；

同形覆盖在所述微浮雕结构表面的镀层；以及

覆盖所述镀层表面的至少半透明的涂层，

其中，所述基层表面划分为m×n个区域，区域R(i,j)上覆盖的微浮雕结构的深度等于与区域R(i,j)的行值i相同但是列值j不相同的区域上覆盖的微浮雕结构的深度，区域R(i,j)上覆盖的微浮雕结构的深度不等于与区域R(i,j)的行值i不相同但是列值j相同的区域上覆盖的微浮雕结构的深度，

与区域R(i,j)所对应的涂层的折射率等于与区域R(i,j)的行值i不相同但是列值j相同的区域所对应的涂层的折射率，与区域R(i,j)所对应的涂层的折射率不等于与区域R(i,j)的行值i相同但是列值j不相同的区域所对应的涂层的折射率，

其中，m为大于或等于1的整数，n为大于或等于2的整数，区域R(i,j)表示所述基层表面的第i行第j列的区域，i为整数且1≤i≤m，j为整数且1≤j≤n。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，m的值为1，n的值为2。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，m的值为1，n的值为3。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，m的值为3，n的值为2。

5.根据权利要求1至4中任意一项权利要求所述的光学防伪元件，所述微浮雕结构的至少一部分的图案为以下中的至少一种或任意组合：

微浮雕结构的浮雕单元随机或伪随机分布；

微浮雕结构的浮雕单元在一个方向随机或伪随机分布；

微浮雕结构的浮雕单元在第一方向周期分布，在第二方向随机或伪随机分布。

6.根据权利要求5所述的光学防伪元件，其中，在所述微浮雕结构的至少一部分的图案为微浮雕结构的至少一部分的浮雕单元随机或伪随机分布的情况下，所述微浮雕结构的至少一部分的特征尺寸为0.3μm至6μm，该微浮雕结构的至少一部分的深度还满足以下条件：

当所述光束以一入射角照射所述微浮雕结构的至少一部分时，所述光学防伪元件的至少一部分在反射光方向上呈现第一颜色、在散射光方向上呈现第二颜色。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的所述至少一部分的特征尺寸为0.6μm至3μm。

8.根据权利要求1至4中任意一项权利要求所述的光学防伪元件，其中，在所述微浮雕结构的至少一部分的图案为微浮雕结构的至少一部分的浮雕单元在第二方向随机或伪随机分布的情况下，所述微浮雕结构的至少一部分在所述第二方向的特征尺寸为0.3μm至6μm，在第一方向的特征尺寸大于6μm，所述微浮雕结构的至少一部分的深度还满足以下条件：

当所述光束以一入射角照射所述微浮雕结构的至少一部分时，如果所述光束在与所述基层所在平面垂直并包含所述第二方向的第一平面内，则所述光学防伪元件的至少一部分在该第一平面内反射光方向上呈现第一颜色、散射光方向上呈现第二颜色。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的所述至少一部分在所述第二方向的特征尺寸为0.6μm至3μm，和/或所述微浮雕结构的所述至少一部分在所述第一方向的特征尺寸大于10μm。