[发明专利]双参量传感器及其制造方法、双参量感测系统有效
申请号: | 201910211494.0 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109900381B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 付剑波;吴海龙;但艺;毛大龙;周焱;朱海鹏;韩燕淋;冉敏;梁鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G01K11/3206 | 分类号: | G01K11/3206;G01L1/24 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 杨广宇 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 参量 传感器 及其 制造 方法 系统 | ||
1.一种双参量传感器,其特征在于,所述双参量传感器包括:
柔性基底以及设置在所述柔性基底上的至少一个传感组件;
所述传感组件包括第一光波导、光栅结构和多个薄膜晶体管,所述多个薄膜晶体管沿第一方向阵列排布且位于所述柔性基底的一侧,所述光栅结构包括与多个所述薄膜晶体管一一对应的多个光栅条,所述多个光栅条沿第一方向阵列排布,且每个所述光栅条设置在相应的所述薄膜晶体管远离所述柔性基底的一侧,所述第一光波导设置在所述薄膜晶体管远离所述柔性基底的一侧,所述光栅结构设置在所述第一光波导的出光侧,其中,所述第一方向与所述第一光波导的光传导方向平行;
所述薄膜晶体管被配置为输出源漏电流,以根据所述源漏电流确定所述双参量传感器的输出电流,根据所述输出电流的变化量确定温度的变化量;
所述第一光波导被配置为将射入所述第一光波导的光线传导至所述光栅结构,所述光栅结构被配置为根据传导至所述光栅结构的光线产生反射光,以根据所述反射光的特征波长的变化量和所述温度的变化量确定应力的变化量。
2.根据权利要求1所述的双参量传感器,其特征在于,
所述传感组件还包括:第二光波导,所述第二光波导设置在所述光栅结构远离所述第一光波导的一侧;
所述第二光波导被配置为将通过所述光栅结构射入所述第二光波导的光线传导出所述传感组件。
3.根据权利要求2所述的双参量传感器,其特征在于,所述光栅结构还包括:设置在所述第一光波导与第一光栅条之间的填充条,设置在所述第二光波导与第二光栅条之间的填充条,以及设置在每相邻的两个光栅条之间的填充条。
4.根据权利要求2所述的双参量传感器,其特征在于,所述传感组件还包括:设置在所述柔性基底与所述第一光波导之间的第一支撑结构,以及设置在所述柔性基底与所述第二光波导之间的第二支撑结构;
所述第一光波导、所述第二光波导以及所述多个光栅条同层设置,且所述第一光波导、所述第二光波导以及所述多个光栅条位于同一平面内。
5.根据权利要求1至4任一项所述的双参量传感器,其特征在于,所述双参量传感器包括多个所述传感组件,多个所述传感组件沿第二方向阵列排布,所述第二方向与任一所述传感组件的光传播方向垂直。
6.一种双参量传感器的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一柔性基底;
在所述柔性基底上形成至少一个传感组件,所述传感组件包括第一光波导、光栅结构和多个薄膜晶体管,所述多个薄膜晶体管沿第一方向阵列排布且位于所述柔性基底的一侧,所述光栅结构包括与多个所述薄膜晶体管一一对应的多个光栅条,所述多个光栅条沿第一方向阵列排布,且每个所述光栅条设置在相应的所述薄膜晶体管远离所述柔性基底的一侧,所述第一光波导设置在所述薄膜晶体管远离所述柔性基底的一侧,所述光栅结构设置在所述第一光波导的出光侧,其中,所述第一方向与所述第一光波导的光传导方向平行;
其中,所述薄膜晶体管被配置为输出源漏电流,以根据所述源漏电流确定所述双参量传感器的输出电流,根据所述输出电流的变化量确定温度的变化量;
所述第一光波导被配置为将射入所述第一光波导的光线传导至所述光栅结构,所述光栅结构被配置为根据传导至所述光栅结构的光线产生反射光,以根据所述反射光的特征波长的变化量和所述温度的变化量确定应力的变化量。
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