[发明专利]基于空间密度分析的半导体晶片的引导检查

权利要求书

1.一种用于基于空间密度分析的半导体晶片的引导检查的系统，包括：

存储器；和

处理装置，与所述存储器可操作地耦合，用于：

识别已经由审查工具审查的所述半导体晶片处的多个样本；

识别未经所述审查工具审查的所述半导体晶片处的候选样本；

确定所述候选样本在所述半导体晶片处的位置；

确定在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的已经审查的所述多个样本的数量；和

基于在与所述候选样本的位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量来选择所述候选样本以供所述审查工具审查。

2.如权利要求1所述的系统，其中，为了基于在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量来选择所述候选样本以供所述审查工具审查，所述处理装置进一步用于：

当在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量不满足阈值数量时，向所述审查工具提供所述候选样本。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述处理装置进一步用于：

识别未经所述审查工具审查的所述半导体晶片处的后续候选样本；

确定所述后续候选样本在所述半导体晶片处的后续位置；

确定包含在与所述后续候选样本的所述后续位置邻近的位置处的已经审查的所述候选样本和所述多个样本在内的样本的数量；和

基于在与所述后续候选样本的所述后续位置邻近的位置处的所述样本的所述数量来选择待由所述审查工具审查的所述后续候选样本。

4.如权利要求1所述的系统，其中，为了基于在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量来选择所述候选样本以供所述审查工具审查，所述处理装置进一步用于：

识别包括所述候选样本的所述半导体晶片的裸片，其中在与所述候选样本的所述位置邻近的已经审查的所述多个样本的位置位于包括所述候选样本的所述裸片处。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述审查工具对应于扫描电子显微镜。

6.如权利要求1所述的系统，其中对供所述审查工具审查的所述候选样本的所述选择进一步基于已经由审查工具审查的半导体晶片处的所述多个样本的分类结果。

7.如权利要求1所述的系统，其中基于在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量的对供所述审查工具审查的所述候选样本的所述选择与先前已由所述审查工具审查的所述多个样本的密度相关联。

8.一种用于基于空间密度分析的半导体晶片的引导检查的方法，包括：

识别已经由审查工具审查的所述半导体晶片处的多个样本；

识别未经所述审查工具审查的所述半导体晶片处的候选样本；

确定所述候选样本在所述半导体晶片处的位置；

通过处理装置确定在与所述候选样本的位置邻近的位置处的已被审查的所述多个样本的数量；和

基于与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量来选择所述候选样本以供所述审查工具审查。

9.如权利要求8所述的方法，基于在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量来选择所述候选样本以供所述审查工具审查，包括：

当在与所述候选样本的所述位置邻近的位置处的所述多个样本的所述数量不满足阈值数量时，向所述审查工具提供所述候选样本。

10.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括：

识别未经所述审查工具审查的所述半导体晶片处的后续候选样本；

确定所述后续候选样本在所述半导体晶片处的后续位置；

确定包含在与所述后续候选样本的所述后续位置邻近的位置处的已经审查的所述候选样本和所述多个样本在内的样本的数量；和

基于在与所述后续候选样本的所述后续位置邻近的位置处的所述样本的所述数量来选择待由所述审查工具审查的所述后续候选样本。