[发明专利]在衬底上形成图案的方法有效
| 申请号： | 201910213412.6 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111724816B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 李泰文;杨拥平 | 申请（专利权）人： | 新科实业有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/265 | 分类号： | G11B5/265;G11B5/31;G11B5/84 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 中国香港新界沙田香*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 衬底 形成 图案 方法 | ||
1.在衬底上形成图案的方法，包括如下步骤：
(1) 提供一透光载体，在所述透光载体的表面铺设固定带；
(2) 将一衬底的第一表面固定在所述固定带上；
(3) 在所述衬底的第二表面附着一光刻胶层，所述第二表面与第一表面相对，其中，多个所述衬底以预定间隙排列固定在所述固定带上，保证光通过，以便沿着所述第二表面的边缘产生边界效应；
(4)自所述透光载体至所述光刻胶层的方向进行曝光，光沿着所述衬底的边界产生边界效应，从而在所述光刻胶层上形成保留区域和可去除区域；所述光刻胶层选择为负性光刻胶层，经光曝光部分和产生边界效应的部分形成所述保留区域，没被曝光的部分形成所述可去除区域；
(5) 显影所述光刻胶层从而除去所述可去除区域，所述光刻胶层的所述保留区域构成待光刻图案；及
(6) 蚀刻所述衬底的所述第二表面以除去部分衬底材料和光刻胶材料，从而形成所述图案。
2.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：还包括除去所述衬底上剩余的所述光刻胶的步骤。
3.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：所述透光载体为透明载体。
4.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：所述固定带为透明胶带。
5.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于，所述衬底两侧设置有挡板，所述挡板和所述衬底以预定间隙排列固定在所述固定带上。
6.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：所述光刻胶层为干的负性光刻胶层。
7.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：在所述光刻胶层上方设有反射控制层。
8.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：步骤（3）中所述衬底的所述第二表面为磁头的空气承载面。
9.如权利要求1所述的在衬底上形成图案的方法，其特征在于：步骤（4）中采用UV散射光进行曝光。
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