[发明专利]光磁双重响应的Janus粒子、制备和应用与形貌调控方法在审
申请号: | 201910214490.8 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109999738A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 朱锦涛;徐梦君;张连斌 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B01J13/06 | 分类号: | B01J13/06;C23C14/32;C23C14/35;C23C14/20;C23C14/08;A61K41/00;A61K47/02;A61K47/30;A61K49/12 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 孙杨柳;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 制备 聚合物微球 偏振光辐射 双重响应 光响应 光磁 制备和应用 形貌调控 偏振光 聚合物功能材料 形貌 铁磁性材料 靶向载体 可重复性 裸露表面 外加磁场 形貌变化 制备药物 规整 磁共振 磁热疗 屏蔽 取向 洗脱 显影 沉积 磁场 调控 应用 | ||
本发明公开了一种光磁双重响应的Janus粒子、制备和应用与形貌调控方法,属于聚合物功能材料领域。制备方法包括制备光响应聚合物微球、半屏蔽法固定光响应聚合物微球、光响应聚合物微球裸露表面沉积铁磁性材料以及Janus粒子的洗脱和分离。所述Janus粒子能够在外加磁场的作用下规整取向,在偏振光辐射下发生形貌变化,可通过调控磁场、偏振光方向、偏振光辐射时间及偏振光辐射次数来制备形貌各异的Janus粒子。本发明的制备方法操作简单、成本低廉、可重复性强、适用于不同尺寸的粒子,并且便于大批量大规模制备。所得光磁双重响应的Janus粒子在磁共振显影、磁热疗或制备药物靶向载体方面的应用。
技术领域
本发明属于聚合物功能材料领域,更具体地,涉及到一种光磁双重响应的Janus粒子、制备和应用与形貌调控方法。
背景技术
Janus这一概念在1991年被首次提出,用于表示微粒具有两种不同的化学组成及物理性质。Janus粒子的这种合二为一的特点让它在功能表面活性剂、微型自驱动体系、自组装和分子识别、光电生物传感器、电子显示屏和药物负载等领域表现出不错的应用前景。目前,所知的Janus粒子的形貌大多局限在球形、柱形、碟形、雪人形、汉堡形、哑铃形、半树莓形等,而这些形貌的Janus粒子在实际应用时也面临着新的挑战,例如将粒子作为药物载体时,一方面可以利用Janus粒子负载不同的药物,另一方面,要求细胞粘附点处粒子的局部形貌是利于细胞吞噬,因此这对Janus粒子提出了新的要求。传统上,制备Janus粒子的方法主要有微流体法、拓扑选择表面改性、模板导向自组装、可控相分离及可控表面成核等。然而通过上述方法,难以得到丰富形貌的Janus粒子,另外影响Janus粒子结构的因素较多,并且制备过程复杂,可控性不强。
利用光响应聚合物制备不同形貌的Janus粒子的方法虽然已有文献报道,但是存在粒子的尺寸不均、形貌单一且很难批量制备的问题,上述缺陷和不足大大地限制了Janus粒子的应用。
发明内容
本发明解决了现有技术中Janus粒子尺寸不均匀、形貌单一以及无法批量制备的技术问题。
按照本发明的第一方面,提供了一种光磁双重响应的Janus粒子的制备方法,含有以下步骤:
(1)制备光响应聚合物微球:利用微流控技术或膜乳化法,以光响应聚合物为原料制备得到光响应聚合物微球;
(2)半屏蔽法固定光响应聚合物微球:配制水溶性聚合物溶液,将该水溶性聚合物溶液均匀旋涂至基底表面,待水溶性聚合物溶液中的溶剂挥发后,基底表面形成均匀的水溶性聚合物涂层;然后将步骤(1)中制得的光响应聚合物微球的悬浮液超声分散后滴加至该涂层上,使光响应聚合物微球单层平铺在涂层上;所述悬浮液使涂层溶胀,在自身重力作用下,每个光响应聚合物微球的部分陷入涂层中,另外的部分裸露在涂层外;静置使悬浮液中的溶剂挥发;
(3)光响应聚合物微球裸露表面沉积铁磁性材料:采用物理气相沉积法为步骤(2)中光响应聚合物微球裸露在涂层外的部分沉积铁磁性材料,得到具有铁磁性镀层的Janus粒子;
(4)Janus粒子的洗脱和分离:将步骤(3)中得到的具有铁磁性镀层的Janus粒子洗脱后进行分离,即得到光磁双重响应的Janus粒子。
优选地,步骤(1)所述光响应聚合物为偶氮苯聚合物、螺吡喃聚合物、偶氮萘醌聚合物、二芳基乙烯聚合物、邻硝基苯甲酰聚合物、香豆素聚合物、古柯间二酸聚合物、偶氮苯聚合物的衍生物、螺吡喃聚合物的衍生物、偶氮萘醌聚合物的衍生物、二芳基乙烯聚合物的衍生物、邻硝基苯甲酰聚合物的衍生物、香豆素聚合物的衍生物或古柯间二酸聚合物的衍生物;
步骤(3)中所述物理气相沉积法为真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜或分子束外延法;步骤(3)所述铁磁性材料为铁、钴、镍、钆、铁的氧化物、钴的氧化物、镍的氧化物、钆的氧化物或铁钴镍中至少两种金属合金中的至少一种;步骤(3)中沉积铁磁性材料的厚度为1nm-500nm。
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