[发明专利]一种高强度超薄玻璃的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910215719.X 申请日: 2019-03-21
公开(公告)号: CN109704564A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 刘仁玉 申请(专利权)人: 南通向阳光学元件有限公司
主分类号: C03C3/085 分类号: C03C3/085;C03B5/16;C03C21/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 卢霞
地址: 226600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 玻璃液 重量份 超薄玻璃 制备 玻璃 玻璃液均化 玻璃配方 盖板玻璃 光电信息 膨胀系数 溶解气体 原料熔化 制备工艺 软化点 退火点 氧化硅 氧化铝 氧化镁 氧化钠 氧化锆 应变点 条纹 均化 排出 熔窑 澄清
【说明书】:

发明提供了一种高强度超薄玻璃的制备方法,原料按照重量百分数包括以下成分:氧化硅60‑65重量份,氧化铝10‑17重量份,氧化钠11‑15重量份,氧化镁3‑13重量份,氧化锆0‑3重量份;所述的高强度超薄玻璃的制备方法,包括如下步骤:1)原料熔化:将上述原料直接加入到1300摄氏度左右的熔窑中,形成玻璃液;2)玻璃液澄清:将温度升高到1400‑1500摄氏度,形成玻璃液,排出其中的可见气泡和溶解气体;3)玻璃液均化:将玻璃长期处于高温下,消除玻璃液中的条纹,形成均化的玻璃液。本发明通过合理调整玻璃配方和制备工艺,改善了玻璃的抗拉强度,使玻璃的应变点、退火点、软化点、膨胀系数、密度机械强度、光电信息性能符合超薄盖板玻璃的要求。

技术领域

本发明涉及一种高强度超薄玻璃的制备方法,属于光学元件领域。

背景技术

随着触摸屏显示行业的快速发展,市场对触摸屏玻璃表面保护玻璃的厚度要求越来越薄,玻璃的超薄化已经成为玻璃的重要发展趋势之一。触摸屏玻璃表面保护玻璃厚度要求小于1mm,超薄电子玻璃产品已经被广泛应用于智能手机、平板电脑、AG玻璃、保护玻璃等显示终端中。

然而超薄化也带来了显而易见的弊端,那就是力学强度的降低。在降低重量、减小体积的同时,杂质、缺陷以及任何降低玻璃强度的负面因素都会被放大。比如:一个小小的裂纹或缺陷对于普通厚度的玻璃来说只是表面上一个微不足道的瑕疵,但相对于超薄玻璃来说,同样大小的裂纹却可能已经深入玻璃内部,对其强度造成无法忽视的破坏。这直接造成了超薄玻璃在抗折强度、表面硬度等力学性能指标上明显落后于普通的平板玻璃,这给超薄玻璃的实际应用带来了巨大的阻碍。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足之处,提供一种高强度超薄玻璃的制备方法。

本发明的高强度超薄玻璃的制备方法,原料按照重量百分数包括以下成分:氧化硅60-65重量份,氧化铝10-17重量份,氧化钠11-15重量份,氧化镁3-13重量份, 氧化锆0-3重量份;

所述的高强度超薄玻璃的制备方法,包括如下步骤:

1)原料熔化:将上述原料直接加入到1300摄氏度左右的熔窑中,形成玻璃液;

2)玻璃液澄清:将温度升高到1400-1500摄氏度,形成玻璃液,排出其中的可见气泡和溶解气体;

3)玻璃液均化:将玻璃长期处于高温下,消除玻璃液中的条纹,形成均化的玻璃液;

4)玻璃液冷却:将澄清和均化后的玻璃液均匀降温,玻璃成型;

5)采用离子交换法对步骤4)制成的高强度超薄玻璃进行钢化处理,具体处理步骤如下:将玻璃进行超声波清洗、刷洗后,经200~300摄氏度预热处理,然后浸入450摄氏度熔融KNO3中进行离子交换处理。

本发明通过合理调整玻璃配方和制备工艺,改善了玻璃的抗拉强度,使玻璃的应变点、退火点、软化点、膨胀系数、密度机械强度、光电信息性能符合超薄盖板玻璃的要求。

具体实施方式

实施例1

本发明的高强度超薄玻璃的制备方法,原料按照重量百分数包括以下成分:氧化硅60重量份,氧化铝10重量份,氧化钠11重量份,氧化镁3重量份;

所述的高强度超薄玻璃的制备方法,包括如下步骤:

1)原料熔化:将上述原料直接加入到1300摄氏度左右的熔窑中,形成玻璃液;

2)玻璃液澄清:将温度升高到1400-1500摄氏度,形成玻璃液,排出其中的可见气泡和溶解气体;

3)玻璃液均化:将玻璃长期处于高温下,消除玻璃液中的条纹,形成均化的玻璃液;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通向阳光学元件有限公司,未经南通向阳光学元件有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910215719.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top