[发明专利]几何体任意截面的显示方法、装置及电子设备有效
申请号: | 201910216254.X | 申请日: | 2019-03-21 |
公开(公告)号: | CN109934893B | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 李逢春;杨勇;黄翊 | 申请(专利权)人: | 广联达科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T11/40 | 分类号: | G06T11/40;G06T15/00;G06T15/30;G06T15/20 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 程超 |
地址: | 100193 北京市海淀区西*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 几何体 任意 截面 显示 方法 装置 电子设备 | ||
1.一种几何体任意截面的显示方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)输入几何体数据和裁剪平面参数,所述几何体由多个基本图元以面表达的方式构成,所述基本图元为三角形,几何体数据包括各基本图元的顶点坐标和法向量,所述裁剪平面的方程为Ax+By+Cz+D=0,其中A、B、C、D为裁剪平面参数;
2)计算所述裁剪平面的法向量;
3)对每个基本图元,计算其各个顶点到所述裁剪平面的距离;
4)将每个基本图元光栅化为多个图元片段,并计算各图元片段到所述裁剪平面的距离,该距离由基本图元各顶点到所述裁剪平面的距离线性插值得到;
5)对每个基本图元,先对其中到所述裁剪平面的距离大于等于0的图元片段执行正面着色,再对该基本图元执行反面着色,反面着色过程中,以裁剪平面的法向量替代该基本图元原有的法向量;
6)显示所述正面着色和反面着色结果。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤3)中基本图元各顶点到裁剪平面的距离d通过下式计算得到:
其中,(x0,y0,z0)为图元顶点坐标。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤2)中,裁剪平面的法向量N由下式计算得到:N=-(A B C)((MV)-1)T,其中,(A B C)是裁剪平面在世界坐标系下的方向矢量,M为世界坐标系下几何体的模型变换矩阵,V为世界坐标系下几何体的视图变换矩阵,N为裁剪平面在观察坐标系下的法向量。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述几何体为BIM建筑信息模型中的三维几何体。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述反面着色的材质和颜色均可选择。
6.一种几何体任意截面的显示装置,其特征在于,包括:
参数输入模块(100),用于输入几何体数据和裁剪平面参数,所述几何体由多个基本图元以面表达的方式构成,所述基本图元为三角形,几何体数据包括各基本图元的顶点坐标和法向量,所述裁剪平面的方程为Ax+By+Cz+D=0,其中A、B、C、D为裁剪平面参数;
裁剪平面法向量计算模块(200),用于计算所述裁剪平面的法向量;
图元顶点数据处理模块(300),用于对每个基本图元,计算其各个顶点到所述裁剪平面的距离;
图元片段数据处理模块(400),用于将每个基本图元光栅化为多个图元片段,并计算各个图元片段到所述裁剪平面的距离,该距离由基本图元各顶点到所述裁剪平面的距离线性插值得到;
着色处理模块(500),用于对每个基本图元,先对其中到所述裁剪平面的距离大于等于0的图元片段执行正面着色,再对该基本图元执行反面着色,反面着色过程中,以裁剪平面的法向量替代该基本图元原有的法向量;
显示模块(600),用于显示所述正面着色和反面着色结果。
7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述图元顶点数据处理模块(300)通过下式计算各基本图元顶点到裁剪平面的距离d:
其中,(x0,y0,z0)为图元顶点坐标。
8.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述裁剪平面法向量计算模块(200)采用下式计算得到裁剪平面的法向量N::
N=-(A B C)((MV)-1)T,其中,(A B C)是裁剪平面在世界坐标系下的方向矢量,M为世界坐标系下几何体的模型变换矩阵,V为世界坐标系下几何体的视图变换矩阵,N为裁剪平面在观察坐标系下的法向量。
9.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述几何体为BIM建筑信息模型中的三维几何体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广联达科技股份有限公司,未经广联达科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910216254.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。