[发明专利]一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺在审
| 申请号： | 201910217587.4 | 申请日： | 2019-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN110064973A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 林德谊;林明璟;林芯睿 | 申请（专利权）人： | 林德谊 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B1/04;B24C1/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光处理剂 铜合金 重量比 表面抛光处理 表面抛光 硫酸溶液 三氯化铁 研磨 抛光 放入 处理工艺 摩擦作用 抛光成本 抛光效率 人工干预 研磨机 省时 省力 配制 腐蚀 | ||
1.一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：
第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：3%～7%的三氯化铁、17～25%的硫酸溶液和68%～80%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；
第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的铜或铜合金；
第三步，铜或铜合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对铜或铜合金的表面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：3%的三氯化铁、17%的硫酸溶液和80%的水。
3.根据权利要求1所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：4%的三氯化铁、17.5%的硫酸溶液和78.5%的水。
4.根据权利要求1所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：6%的三氯化铁、20%的硫酸溶液和74%的水。
5.根据权利要求1所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：7%的三氯化铁、25%的硫酸溶液和68%的水。
6.根据权利要求1所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述研磨机为带振动筒的振动抛光机、涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机或高速离心机。
7.根据权利要求1至6任意一项所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述研磨辅料为树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉。
8.根据权利要求1至6任意一项所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%。
9.根据权利要求7所述的一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述树脂胶粒的目数为600～800目。
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