[发明专利]一种黑硅生产用的除杂装置在审

专利信息
申请号: 201910218375.8 申请日: 2019-03-21
公开(公告)号: CN111718059A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 何其金;张靖;何飞 申请(专利权)人: 江苏德润光电科技有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F101/14;C02F101/16;C02F103/34
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 艾秀丽
地址: 225600 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 生产 装置
【说明书】:

发明涉及黑硅生产技术领域,且公开了一种黑硅生产用的除杂装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有二级除氟箱,所述二级除氟箱的顶部固定安装有一级除氟箱,所述一级除氟箱的顶部固定安装有除银箱,所述除银箱的顶部固定安装有废水进水管,所述除银箱的顶部固定安装有位于废水进水管右侧的硫化钠进料管,所述底座的顶部固定安装有位于二级除氟箱右侧的第一水泵,所述底座的顶部固定安装有位于第一水泵右侧的第二水泵,所述底座的顶部固定安装有位于第一水泵和第二水泵顶部的氧化箱。该黑硅生产用的除杂装置,能够有效的除去黑硅废水中的杂质,被除杂后的废水达到排放标准后即可通过排料孔排出,除杂效果好。

技术领域

本发明涉及黑硅生产技术领域,具体为一种黑硅生产用的除杂装置。

背景技术

黑硅是最新研究发现的一种能大幅提高光电转换效率的新型电子材料,是制造太阳能电池的主要材料之一,主要生产方法有四种,包括化学腐蚀法、飞秒激光扫描法、反应离子刻蚀法和等离子体浸没离子注入法,现阶段主要使用的是化学腐蚀法和等离子体浸没离子注入法。

在使用化学腐蚀法进行生产黑硅时,会产生很多废水,废水中包含有许多有害杂质,直接排放会对环境造成非常严重的影响,故而提出了一种黑硅生产用的除杂装置。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本发明提供了一种黑硅生产用的除杂装置,具备除杂效果好等优点,解决了在使用化学腐蚀法进行生产黑硅时,会产生很多废水,废水中包含有许多有害杂质,直接排放会对环境造成非常严重的影响的问题。

(二)技术方案

为实现上述除杂效果好的目的,本发明提供如下技术方案:一种黑硅生产用的除杂装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有二级除氟箱,所述二级除氟箱的顶部固定安装有一级除氟箱,所述一级除氟箱的顶部固定安装有除银箱,所述除银箱的顶部固定安装有废水进水管,所述除银箱的顶部固定安装有位于废水进水管右侧的硫化钠进料管,所述底座的顶部固定安装有位于二级除氟箱右侧的第一水泵,所述底座的顶部固定安装有位于第一水泵右侧的第二水泵,所述底座的顶部固定安装有位于第一水泵和第二水泵顶部的氧化箱,所述氧化箱的顶部固定安装有沉淀箱,所述沉淀箱的顶部固定安装有反硝化箱,所述反硝化箱的顶部固定安装有硝化细菌入料管,所述底座的顶部固定安装有位于第二气泵右侧的气浮测试箱,所述除银箱的左侧和沉淀箱的右侧均固定安装有沉淀排出管,所述除银箱与一级除氟箱、一级除氟箱与二级除氟箱、二级除氟箱与第一水泵、第一水泵与反硝化箱、反硝化箱与沉淀箱、沉淀箱与氧化箱、氧化箱与气浮测试箱、气浮测试箱与第二水泵和第二水泵与反硝化箱均通过连接管连通,所述一级除氟箱的左侧固定安装有氢氧化钙入料管,所述二级除氟箱的左侧固定安装有氯化钙入料管,所述氧化箱的正面固定安装有次氯酸钠入料管,所述除银箱的内壁右侧固定安装有隔离网,所述气浮测试箱的内壁固定安装有排料管。

优选的,所述连接管的顶部和沉淀排出管的顶部均固定安装有控制阀,控制阀的数量为九个。

优选的,所述底座的顶部设置有支撑杆,支撑杆的数量为八个,八个支撑杆以四个为一组均匀分布于二级除氟箱的底部四角和氧化箱的底部四角。

优选的,所述除银箱与一级除氟箱、一级除氟箱与二级除氟箱、反硝化箱与沉淀箱和沉淀箱与氧化箱之间均设置有连接杆,连接杆的数量为十六个。

优选的,所述除银箱的顶部开设有进水孔,进水孔位于废水进水管的底部。

优选的,所述第二水泵与反硝化箱对应的连接管位于右侧沉淀排出管的背部,第一水泵与反硝化箱对应的连接管位于第二水泵与反硝化箱对应连接管的正面。

(三)有益效果

与现有技术相比,本发明提供了一种黑硅生产用的除杂装置,具备以下有益效果:

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