[发明专利]介质滤波器、通信设备、制备介质块及介质滤波器的方法

权利要求书

1.一种介质滤波器，其特征在于，所述介质滤波器包括：

介质块，形成至少两个谐振腔，所述至少两个谐振腔连接；

至少第一耦合孔和第二耦合孔，所述第一耦合孔设置在所述介质块的第一表面上，所述第二耦合孔设置在所述介质块的第二表面上，所述第一表面与第二表面相对设置；

金属层，覆盖在所述介质块表面、所述第一耦合孔表面及所述第二耦合孔表面；其中，所述介质滤波器的材料至少包括氧化镁、氧化钙、二氧化钛和氧化锌。

2.根据权利要求1所述的介质滤波器，其特征在于，所述氧化镁所占摩尔百分比为20％～30％；所述氧化钙所占摩尔百分比为2％～10％；所述二氧化钛所占摩尔百分比为50％～75％；所述氧化锌所占摩尔百分比为0.1％～5％。

3.根据权利要求1所述的介质滤波器，其特征在于，所述至少两个谐振腔包括第一谐振腔及第二谐振腔，所述介质滤波器进一步包括第一盲孔及第二盲孔，所述第一谐振腔设置有所述第一盲孔，所述第二谐振腔设置有所述第二盲孔。

4.根据权利要求1所述的介质滤波器，其特征在于，所述第一耦合孔的深度与所述第二耦合孔的深度的比值范围为0.8-1.2；

所述第一耦合孔的深度与所述第二耦合孔的深度的比值范围为1-1.2，以实现所述两个谐振腔之间的负耦合；所述第一耦合孔的深度与所述第二耦合孔的深度的比值范围为0.8-1，以实现所述两个谐振腔之间的正耦合。

5.根据权利要求1所述的介质滤波器，其特征在于，所述第一耦合孔的深度和所述第一耦合孔的半径的比值为0.9-1.1。

6.根据权利要求1所述的介质滤波器，其特征在于，设置在所述第一耦合孔内的金属层的厚度大于设置在所述第二耦合孔内的金属层的厚度。

7.根据权利要求1所述的介质滤波器，其特征在于，所述介质滤波器的材料的化学组成为aMgO-bCaO-cTiO₂-dZnO，其中a、b、c和d的比例为0.2～0.3:0.02～0.1:0.5～0.7:0.001～0.05。

8.一种制备介质块的方法，其特征在于，所述方法用于制备权利要求1-7任意一项所述的介质块，所述方法包括：

提供对应氧化镁、氧化钙、二氧化钛和氧化锌的原材料；

添加有机溶剂和磨球并进行一次球磨；

将所述一次球磨得到的料浆烘干，并通过煅烧得到陶瓷体；

粉碎所述陶瓷体，添加有机溶剂和磨球并进行二次球磨；

将所述二次球磨得到的料浆烘干；

将得到的粉体与粘结剂混合成浆料进行造粒；

在与所述介质块的形状匹配的模具中干压成型；以及

去除粘结剂并再次烧结，以得到所述介质块。

9.一种制备介质滤波器的方法，其特征在于，所述方法用于制备权利要求1-7任一项所述的介质滤波器，所述方法包括：

提供介质块，所述介质块通过权利要求8所述的方法所制备；

在所述介质块的表面上覆盖金属层，以得到所述介质滤波器。

10.一种通信设备，其特征在于，所述通信设备包括天线及权利要求1-7任一项所述的介质滤波器，所述天线与所述介质滤波器耦接。