[发明专利]一种光反射少的黑硅表面涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种光反射少的黑硅表面涂层，包括涂抹装置(1)，其特征在于：所述涂抹装置(1)的顶部左侧前端面设置有蓄液槽(2)，所述蓄液槽(2)的内腔底部设置有过滤网(3)，所述过滤网(3)的左侧垂直设置有竖杆(4)，所述竖杆(4)的左侧顶部设置有横杆(5)，所述涂抹装置(1)的左侧中部通过安装板设置有电动伸缩杆(6)，所述电动伸缩杆(6)的顶部与横杆(5)的底部左侧固定连接，所述涂抹装置(1)的顶部右侧前端面设置有静置槽(7)，所述静置槽(7)的内腔底部设置有滤板(8)，所述滤板(8)的顶部左右两侧均设置有侧面板(9)，两组所述侧面板(9)的前后端面均通过横向设置的横向挡杆(10)固定连接，所述滤板(8)的顶部从左至右依次均匀设置有隔板(11)，所述侧面板(9)高于涂抹装置(1)的顶部平面，所述侧面板(9)的顶部均设置有拉手(12)，所述涂抹装置(1)的右侧顶部设置有支撑杆(14)，所述支撑杆(14)的顶部横向设置有电机安装板(15)，所述电机安装板(15)的顶部设置有电机(16)，所述电机(16)的底部贯穿电机安装板(15)设置有电机轴(18)，且电机轴(18)的底部设置有扇叶(19)，所述扇叶(19)的位置对应静置槽(7)设置。

2.根据权利要求1所述的一种光反射少的黑硅表面涂层，其特征在于：所述涂抹装置(1)的顶部右侧后端面设置有检测槽(20)，所述检测槽(20)的内腔前后端面均设置有安装架(21)，所述检测槽(20)的内腔前后端面均通过相匹配的安装架(21)设置有LED灯(22)。

3.根据权利要求1所述的一种光反射少的黑硅表面涂层，其特征在于：所述静置槽(7)的左侧底部通过连通管(13)与蓄液槽(2)的右侧中部连通，所述静置槽(7)的内腔底部右高左底设置有导流板。

4.根据权利要求1所述的一种光反射少的黑硅表面涂层，其特征在于：所述扇叶(19)的外部包裹设置有钢丝保护罩，所述钢丝保护罩的左右两侧均设置有安装块，安装块与电机安装板(15)的底部设置有相匹配的螺纹孔，且安装块均通过相匹配的螺纹孔与螺栓活动连接电机安装板(15)的底部。

5.根据权利要求1所述的一种光反射少的黑硅表面涂层，其特征在于：所述涂抹装置(1)的顶部右侧前端面设置有两组垫块，且两组垫块分别设置在静置槽(7)的顶部左右两侧，垫块的顶部均拉手(12)的底部贴合连接。

6.根据权利要求1所述的一种光反射少的黑硅表面涂层，其特征在于：所述蓄液槽(2)的液位高度低于静置槽(7)的底部高度。

7.一种光反射少的黑硅表面涂层及其制备方法包括如下步骤，

S1：首先将防反光液体材料倒入到蓄液槽(2)中，注意贯穿液位高度，不得高出连通管(13)，完成液体的添加后，将片状黑硅材料缓慢的放入到蓄液槽(2)中，片状黑硅材料向下掉落，直至落在过滤网(3)；

S2：而片状黑硅材料在液体中向下掉落时，其表面就会涂抹上液体，然后静置一端时间，通过外接电源控制开关，开启电动伸缩杆(6)，电动伸缩杆(6)向上升高，并通过横杆(5)带动竖杆(4)同时向上移动，而竖杆(4)向上移动的同时就会带动过滤网(3)同时向上移动，从而带动落在过滤网(3)上的片状黑硅材料上升，直到完全露出；

S3：然后将片状黑硅材料取出，放置在相邻隔板(11)之间，而片状黑硅材料上多余的液体会通过滤板(8)上的滤孔向下流动，落在静置槽(7)的底部；

S4：然后通过外接电源控制开关，开启电机(16)，电机(16)通过电机轴(18)带动扇叶(19)进行转动，对片状黑硅材料进行风干，加快效率，然后可将加工好的片状黑硅材料放置到检测槽(20)中，通过外接电源控制开关，开启LED灯(22)，通过LED灯(22)的灯光照射，对片状黑硅材料进行简单的检测。