[发明专利]一种双面主动红外发射率调节薄膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种基于碳材料的双面主动红外发射率调节薄膜，其特征在于：该调节薄膜包括上层、中层和下层，上层为碳纳米管薄膜或无定形薄膜，下层为石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜或无定形碳薄膜，中层为填充有离子液的离子隔膜；

所述的石墨烯薄膜的制备方法为：通过化学气相沉积方法在镍箔上生长得到，随后在饱和FeCl₃水溶液中腐蚀镍箔，然后将石墨烯转移至去离子水中，经过多次冲洗除去杂质后，得到石墨烯薄膜，石墨烯薄膜厚度为50～1000nm；

所述碳纳米管薄膜的制备方法为：将厚度0.1μm～100μm的多壁碳纳米管薄膜浸泡在王水中1～3天后，再用清水浸泡1-24小时后烘干，烘干后转移至惰性气体环境的管式炉中在800-900℃下退火1-2h后自然冷却至室温，得到碳纳米管薄膜，碳纳米管薄膜厚度0.1μm～100μm；

所述的填充有离子液的离子隔膜的制备方法为：使用离子液浸润离子隔膜，得到填充有离子液的离子隔膜；所述的离子液为HMIm[NTf₂](1-己基-3-甲基咪唑双三氟甲磺酰亚胺盐)或DEME[NTf₂]二乙基甲基-(2-甲氧乙基)铵基双(三氟甲磺酰基)酰亚胺；所述的离子隔膜为聚丙烯薄膜或聚乙烯薄膜，离子隔膜的厚度为5μm～1000μm。

2.一种权利要求1所述基于碳材料的双面主动红外发射率调节薄膜的制备方法，其特征在于该方法的步骤包括：将上层转移至中层的上表面，将下层转移至中层的下表面，得到双面主动红外发射率调节薄膜。

3.一种权利要求1所述基于碳材料的双面主动红外发射率调节薄膜的应用，其特征在于步骤为：将上层通过导电银胶和导线与电源正极连接，将下层通过导电银胶和导线与电源负极连接，然后施加电压，最后采用红外相机测试得到调节薄膜的辐射特性。