[发明专利]基于二维层状MXene纳米片制备电磁屏蔽织物的方法及产品

权利要求书

1.一种基于二维层状MXene纳米片制备电磁屏蔽织物的方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

（1）利用氢氧化钠和碳酸钠水溶液对织物进行预处理，去除织物表面的油渍和杂质，用蒸馏水清洗并干燥；

（2）称取一定量的MAX相的Ti₃AlC₂，浸泡于浓度为10%-50%的氢氟酸水溶液中，搅拌反应18-24 h，然后过滤并用蒸馏水清洗，烘干得到MXene粉末；

（3）将MXene粉末溶于一定量的水中，超声得到一定浓度的MXene溶液；

（4）先将MXene溶液喷涂在已进行预处理的织物一面并干燥，然后，再将MXene溶液喷涂在所述织物的另一面并干燥，MXene溶液喷涂过程均匀，得到MXene改性织物。

2.按照权利要求1所述的基于二维层状MXene纳米片制备电磁屏蔽织物的方法，其特征在于，所述的MXene溶液的浓度为0.5 mg/ml-20 mg/ml。

3.按照权利要求1或2所述的基于二维层状MXene纳米片制备电磁屏蔽织物的方法，其特征在于，所述织物的原料含棉、麻、粘胶、羊毛、涤纶、锦纶、维纶、腈纶或芳纶中的一种或多种。

4.按照权利要求1或2所述的基于二维层状MXene纳米片制备电磁屏蔽织物的方法，其特征在于，按照步骤（4）的喷涂方法，所述织物两面喷涂MXene溶液1-20次，得到不同涂层厚度的MXene改性织物。

5.按照权利要求3所述的基于二维层状MXene纳米片制备电磁屏蔽织物的方法，其特征在于，按照步骤（4）的喷涂方法，所述织物两面喷涂MXene溶液1-20次，得到不同涂层厚度的MXene改性织物。

6.一种电磁屏蔽织物，包括织物及织物表面的涂层，其特征在于，所述织物表面的涂层采用如权利要求1-5任一项所述的基于MXene制备电磁屏蔽织物的方法加工而成。

7.按照权利要求6所述的电磁屏蔽织物，其特征在于，所述的织物为针织织物、机织织物或非织造织物。