[发明专利]一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法在审

专利信息
申请号: 201910226660.4 申请日: 2019-03-25
公开(公告)号: CN109734075A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 汪小知;张亮;吴永志 申请(专利权)人: 杭州英希捷科技有限责任公司
主分类号: C01B32/162 分类号: C01B32/162
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林超
地址: 311215 浙江省杭州市萧山经济*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基底 平滑 碳纳米管阵列 溶液催化剂 制备碳纳米 放入 制备 等离子体 等离子体发生器 化学气相沉积 催化剂溶液 反应气体 亲水处理 温度条件 反应腔 匀胶机 烘干 把基 后把 量产 旋涂 取出 配置
【权利要求书】:

1.一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:方法包括以下步骤:将一平滑基底放入等离子体发生器中对平滑基底的表面用等离子体进行亲水处理;然后把基底取出后,在表面滴上配置后的催化剂溶液,再用匀胶机旋涂均匀;最后烘干后把基底放入反应腔内通入反应气体在一定温度条件下采用化学气相沉积法使碳纳米管阵列从基底上长出。

2.根据权利要求1所述的一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:所述的平滑基底为硅片,对硅片表面亲水处理的等离子体功率为50W。

3.根据权利要求1所述的一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:所述的催化剂溶液为氯化铁溶液,其浓度为0.8-1.2mol/L;旋涂过程为1000r/min,时间1分钟。

4.根据权利要求1所述的一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:所述化学气相沉积法为等离子体化学气相沉积法,一定温度条件为580-620摄氏度温度,等离子体化学气相沉积法的等离子体功率为150W,等离子体化学气相沉积法的压强范围为300-330Pa。

5.根据权利要求1所述的一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:所述的反应气体为碳源气与载气的混合气体,所述碳源气为乙炔,所述载气为氢气和氩气的混合气体。

6.根据权利要求1所述的一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:所述气体流量分别为氩气200SCCM、氢气60SCCM、乙炔20SCCM。

7.根据权利要求1所述的一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:所述的反应腔内通入反应气体,具体为:先往反应腔中通入200sccm的氩气,排出反应腔中的空气,然后开始升温并同时通入60sccm的氢气,当温度达到温度580-620摄氏度后关闭氩气,通入20sccm的乙炔气体作为碳源气,同时打开等离子体。

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