[发明专利]一种二氧化硅和氧化铝两层包覆量子点及其制备方法及量子点薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种二氧化硅和氧化铝两层包覆的量子点，其特征在于，所述量子点的包覆层包括二氧化硅包覆层，以及包覆于所述二氧化硅包覆层外侧的氧化铝包覆层。

2.一种权利要求1所述的二氧化硅和氧化铝两层包覆的量子点的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

将量子点溶液分散于溶剂中，得到量子点分散液；将所述量子点分散液与硅源溶液混合，反应后与铝源溶液混合，反应后得到所述二氧化硅和氧化铝两层包覆的量子点。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述量子点包括CdSe量子点、PbSe量子点、PbS量子点、InP量子点、CdTe量子点、CuInS量子点、钙钛矿量子点中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述量子点分散液浓度为30～80mg/mL。

4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为有机溶剂；

优选地，所述有机溶剂包括环己烷、正己烷、甲苯、正辛烷或氯仿中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述溶剂与量子点分散液的体积比为(50～100):1。

5.根据权利要求2-4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述铝源包括三乙基铝、仲丁醇铝、异丙醇铝或甲基铝中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述硅源包括硅酸甲酯、硅酸乙酯或硅酸叔丁酯中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述铝源以溶液的形式与所述量子点分散液混合，所述铝源溶液的浓度为0.5～1.2M。

6.根据权利要求2-5任一项所述的制备方法，其特征在于，所述铝源溶液与量子点分散液的体积比为1:(50～100)；

优选地，所述硅源与量子点分散液的体积比为1:(150～250)。

7.根据权利要求2-6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述硅源的反应在搅拌下进行，所述搅拌的速率为200～1000rpm；

优选地，所述反应的温度为10～50℃；

优选地，所述反应的时间为6～30h；

优选地，所述铝源的反应在搅拌下进行，所述搅拌的速率为200～1000rpm；

优选地，所述反应的温度为10～50℃；

优选地，所述反应的时间为24～72h。

8.根据权利要求2-7任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

将浓度为50mg/mL的量子点溶液分散于环己烷中，量子点溶液与环己烷的体积比为1:80，得到量子点分散液；将所述量子点分散液与硅酸甲酯溶液混合，硅酸甲酯溶液与量子点分散液的体积比为1:200，600rpm转速25℃下搅拌24h，反应后与仲丁醇铝溶液混合，仲丁醇铝溶液与量子点分散液的体积比为1:80，600rpm转速25℃下继续搅拌48h，得到所述二氧化硅和氧化铝两层包覆的量子点。

9.一种量子点薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

将含有权利要求1或2所述量子点的量子点胶水涂覆于平铺在第一模具上的保护膜，将第二保护膜覆盖于所述量子点胶水的上方，接着使用所述第二模具挤压所述量子点胶水并排除气泡，固化所述量子点胶水，最后，移除所述第一模具以及所述第二模具得到所述量子点薄膜。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述模具包括玻璃板、金属板、合金板、塑料板和木板中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述量子点胶水包括量子点与UV胶、热固胶、光刻胶或硅胶中任意一种的组合。