[发明专利]用于指纹识别的显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201910228601.0 申请日: 2019-03-25
公开(公告)号: CN109992155B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 杜凌霄;史文杰;王明玺 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06V40/13
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 文小莉;刘芳
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 指纹识别 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明提供一种用于指纹识别的显示面板和显示装置,显示面板包括阵列基板和设在所述阵列基板上的若干发光单元,所述阵列基板包括衬底和设在所述衬底上的薄膜晶体管层,其中,所述衬底包括层叠设置的至少两层有机膜层,所述至少两层有机膜层之间设置导电遮光层,所述导电遮光层被分割为若干个相互间隔的压感电极,且所述压感电极上开设可供光线透过的成像孔,本发明提供的显示面板,解决了现有屏下指纹识别装置中由于导电遮光层与电路易出现电容耦合而导致像素电路驱动负载较大的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种用于指纹识别的显示面板和显示装置。

背景技术

指纹识别技术是指通过设置在显示屏背面的指纹识别装置采集显示屏正面的指纹,以完成指纹识别的技术,其中,指纹识别技术中,主要包括超声指纹识别和光学指纹识别,光学指纹识别技术中,具体在显示屏的阵列基板中增加遮光层,且遮光层中开设成像孔,通过小孔成像原理,将指纹成像在OLED模组下方的指纹传感器,完成指纹识别。

目前,在显示屏的阵列基板中增加遮光层主要有两种方式,其中一种为在阵列基板的有机膜层(即PI层)上设置导电遮光层,另一种将阵列基板中的其中一金属层作为遮光层,例如可以将array制程中的Gate金属层、source金属层或电容电极金属层作为遮光层,然后在遮光层上开设可供光线透过的成像孔,以使经手指反射的光线透过成像孔在指纹传感器上形成指纹图像,最后通过指纹图像与预存储的指纹图像比对来完成指纹识别。

然而,上述两种设置方式中,导电遮光层与阵列基板上的电路均容易出现电容耦合的问题,从而导致像素电路驱动负载较大。

发明内容

为了解决背景技术中提到的至少一个问题,本发明提供一种用于指纹识别的显示面板和显示装置,降低了导电遮光层与电路之间的寄生电容,使得像素电路驱动负载减小,实现了压感功能的集成。

为了实现上述目的,本发明提供一种用于指纹识别的显示面板,包括:包括阵列基板和设在所述阵列基板上的若干发光单元,所述阵列基板包括衬底和设在所述衬底上的薄膜晶体管层,其中,

所述衬底包括层叠设置的至少两层有机膜层,所述至少两层有机膜层之间设置导电遮光层,所述导电遮光层被分割为若干个相互间隔的压感电极,且所述压感电极上开设可供光线透过的成像孔。

本发明提供的用于指纹识别的显示面板,通过所述衬底包括层叠设置的至少两层有机膜层,所述至少两层有机膜层之间设置导电遮光层,这样导电遮光层之上增加了有机膜层,整个衬底的厚度增大,导电遮光层与阵列基板上像素电路器件之间由于有机膜层的增加而距离增大,从而使得导电遮光层与阵列基板上的电路之间不易出现电容耦合的问题,这样降低或避免导电遮光层与电路器件之间的寄生电容,从而减轻了像素电路的驱动负载,同时,所述导电遮光层被分割为若干个相互间隔的压感电极,且所述压感电极上开设可供光线透过的成像孔,这样导电遮光层复用为压感电极,避免在显示面板中额外设置压感电极,本发明提供的显示面板,降低或避免了导电遮光层与电路器件之间的寄生电容,同时实现了在设置导电遮光层的基础上集成压感功能的目的,解决了现有指纹识别装置中由于导电遮光层与电路易出现电容耦合而导致像素电路驱动负载较大的问题。

本发明还提供一种用于指纹识别的显示面板,包括阵列基板和设在所述阵列基板上的若干发光单元,所述阵列基板包括衬底和设在所述衬底上的薄膜晶体管层,其中,

所述衬底包括层叠设置的至少两层有机膜层,所述至少两层有机膜层之间设置导电遮光层,所述导电遮光层上设置与所述导电遮光层绝缘的多个间隔设置的压感电极,且与所述导电遮光层上开设成像孔,所述压感电极上与所述成像孔对应的位置开设透光孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云谷(固安)科技有限公司,未经云谷(固安)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910228601.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code