[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201910230320.9 | 申请日: | 2019-03-22 |
公开(公告)号: | CN110426812B | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 张永明;廖国裕;赖建勋;刘燿维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
第一透镜,具有负屈折力;
第二透镜,具有正屈折力;
第三透镜,具有屈折力;
第四透镜,具有屈折力;以及
成像面;
所述光学成像系统具有屈折力的透镜为四枚,所述第三透镜至所述第四透镜中至少一个透镜具有正屈折力,并且所述第一透镜至所述第四透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述光学成像系统的可视角度的一半为HAF,所述第一透镜物侧面至所述成像面的距离为HOS,所述第一透镜物侧面至所述第四透镜像侧面于光轴上的距离为InTL,所述第四透镜像侧面的最大有效直径为PhiA4,所述第一透镜至所述第四透镜中任一个透镜的任一个表面与光轴的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为止为终点,前述两点间的轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:f/HEP=2.0;40.2351deg≦HAF≦50deg;0.5≦HOS/f≦7;0PhiA4/InTL≦1.1;以及0.1≦2(ARE/HEP)≦2.0。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜与所述第二透镜之间于光轴上的距离为IN12,所述第二透镜与所述第三透镜之间于光轴上的距离为IN23,其满足下列条件:IN23IN12。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统于结像时的TV畸变为TDT,可见光频谱于所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,所述光学成像系统的正向子午面光扇的最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇的最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以PSTA表示,负向子午面光扇的最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以NLTA表示,负向子午面光扇的最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以NSTA表示,弧矢面光扇的最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以SLTA表示,弧矢面光扇的最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以SSTA表示,其满足下列条件:PLTA≦100微米;PSTA≦100微米;NLTA≦100微米;NSTA≦100微米;SLTA≦100微米;以及SSTA≦100微米;│TDT│100%。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜至所述第四透镜中任一个透镜的任一个表面的最大有效半径以EHD表示,所述第一透镜至所述第四透镜中任一个透镜的任一个表面与光轴的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面的最大有效半径处为终点,前述两点间的轮廓曲线长度为ARS,其满足下列公式:0.1≦ARS/EHD≦2.0。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第四透镜的物侧表面于光轴上的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为止为终点,前述两点间的轮廓曲线长度为ARE41,所述第四透镜的像侧表面于光轴上的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为止为终点,前述两点间的轮廓曲线长度为ARE42,所述第四透镜于光轴上的厚度为TP4,其满足下列条件:0.5≦ARE41/TP4≦20;以及0.5≦ARE42/TP4≦20。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:0PhiA4/HEP≦3.0。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,其满足下列公式:0PhiA4/2HOI≦1.0。
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