[发明专利]一种矢量贝塞尔光束生成装置有效

专利信息
申请号: 201910230839.7 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN109828380B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 涂成厚;王珂;王强;张洪爽;李勇男;王慧田 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B27/42;G02B27/46
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 杜阳阳
地址: 300000*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 矢量 贝塞尔 光束 生成 装置
【权利要求书】:

1.一种矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述装置包括:

空间光调制器SLM,用于接收并调节线偏振光的相位,形成调制光;

全息光栅,加载在所述SLM上,用于衍射所述调制光,形成衍射光;所述全息光栅的透过率为:

其中x为所述衍射光在空间坐标中的横坐标,y为所述衍射光在所述空间坐标中的纵坐标;f为所述全息光栅的空间载频,d为所述全息光栅的周期,为所述全息光栅的旋向坐标,r为所述全息光栅的径向坐标,为所述衍射光的初始相位,n为所述衍射光的拓扑荷数;

空间滤波器,与所述SLM对应设置,用于对所述衍射光进行滤波;

第一波片和第二波片,分别设置在所述空间滤波器上,用于对滤波后的所述衍射光进行转换,形成左旋圆偏光和右旋圆偏光;

光栅,与所述空间滤波器对应设置,用于叠加所述左旋圆偏光和所述右旋圆偏光,形成矢量贝塞尔光束;

所述衍射光为具有相反涡旋相位且强度是贝塞尔分布的衍射光。

2.根据权利要求1所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述装置还包括:

第一透镜,设置于所述SLM与所述空间滤波器之间,所述衍射光透过所述第一透镜聚焦在所述空间滤波器上;

第二透镜,设置于所述空间滤波器和所述光栅之间,所述左旋圆偏光和所述右旋圆偏光透过所述第二透镜透射在所述光栅上。

3.根据权利要求1所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述全息光栅为二维全息光栅。

4.根据权利要求1所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述衍射光为±1级衍射光。

5.根据权利要求1所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述第一波片和所述第二波片均为四分之一波片。

6.根据权利要求1所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述空间滤波器设置于一倍焦距处。

7.根据权利要求1所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述光栅为朗奇光栅。

8.根据权利要求2所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述第一透镜与所述第二透镜共焦。

9.根据权利要求2所述的矢量贝塞尔光束生成装置,其特征在于,所述第一透镜为凸透镜。

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