[发明专利]光学指纹传感器模组及其形成方法

权利要求书

1.一种光学指纹传感器模组，其特征在于，包括：

自发光显示面板，所述自发光显示面板包括指纹区和位于指纹区周围的非指纹显示区；

位于所述自发光显示面板背面且覆盖指纹区的反光滤光层，所述反光滤光层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且所述反光滤光层对绿光的透过率大于对红光的透过率；

位于所述自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区的光学层，所述光学层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率；

位于所述自发光显示面板的指纹区底部的屏下指纹模组，所述屏下指纹模组包括光学传感器，所述反光滤光层位于所述自发光显示面板和光学传感器之间。

2.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，且所述反光滤光层对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。

3.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述光学层对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％。

4.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率。

5.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层包括：透光基板和位于所述透光基板表面的多层层叠的干涉反射膜。

6.根据权利要求5所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述透光基板的材料为聚酰亚胺或聚对苯二甲酸乙二醇酯，所述干涉反射膜的材料包括氮化铝、氧化硅或氧化钛。

7.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述屏下指纹模组与所述反光滤光层贴合在一起，所述反光滤光层位于所述自发光显示面板和所述屏下指纹模组之间；所述光学层的材料和所述反光滤光层的材料相同。

8.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述屏下指纹模组包括反光滤光层；所述光学层的材料和所述反光滤光层的材料不同。

9.根据权利要求8所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述光学层的材料包括红色油墨。

10.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层的厚度为20um～200um。

11.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述光学层的厚度为20um～200um。

12.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述屏下指纹模组还包括：光准直层，所述光准直层位于所述光学传感器和所述反光滤光层之间。

13.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，还包括：位于所述光学层表面的遮光层，且所述光学层位于所述自发光显示面板和所述遮光层之间。

14.根据权利要求13所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述遮光层为黑色油膜层或黑色胶带层。