[发明专利]一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺在审
申请号: | 201910232180.9 | 申请日: | 2019-03-26 |
公开(公告)号: | CN110007374A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 聂旭光;林喜锋;付小燕 | 申请(专利权)人: | 上海域申光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 赵朋晓 |
地址: | 201816 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 膜系 高功率激光 焊接窗口 膜层材料 镀制 抗激光损伤 二氧化硅 二氧化铪 穿透率 膜层数 片膜 设计技术领域 波长穿透力 参数设计 镀膜工艺 真空镀膜 中高功率 窗口片 单数层 激光膜 双数层 正整数 波长 | ||
本发明涉及膜系设计技术领域,特别是涉及一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺,包括:步骤一、对高功率激光焊接窗口片进行膜系参数设计,膜系参数包括:膜层数、膜层材料以及膜层材料的工具因子;膜层数为2n,其中n为正整数;单数层的膜层材料为二氧化铪,双数层的膜层材料为二氧化硅;二氧化铪的工具因子为125~130%,二氧化硅的工具因子为94~98%;步骤二、根据设计的膜系参数,采用真空镀膜的方式在基片上进行膜系镀制,得到高功率激光焊接窗口片。本发明解决现有技术中高功率激光膜波长穿透力不强、抗激光损伤阈值不高的问题,提供的镀膜工艺其膜系设计合理,提高了窗口片的穿透率、波长的穿透率、抗激光损伤阈值。
技术领域
本发明涉及膜系设计技术领域,特别是涉及一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺。
背景技术
高功率激光膜在工程机械、汽车、机床、船舶、石油机械、航空航天、军工、农纺粮等机械设备、电器、电梯等各方面都需要应用到,其应用范围随着科技的日新月异,也在不断的扩大和创新,可见这这项技术在生产生活,国家建设等各方面都有着不可忽略的重要作用。
高功率激光膜镀膜过程中容易产生的问题:因为其重要性,高功率激光膜在镀膜过程中无论是对参数设计还是镀膜工艺都有相当高的精密要求,这就使高功率激光膜在镀膜过程,难免遇到和产生各种问题,即使有经验的操作技工,也会存在波长穿透力不高,抗激光损伤阈值不高,同一炉镀出的产品均匀性不高,导致合格率偏低。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺,用于解决现有技术中高功率激光膜波长穿透力不强、抗激光损伤阈值不高以及合格率较低的问题,提供的镀膜工艺其膜系设计合理,提高了窗口片的穿透率、波长的穿透率、抗激光损伤阈值以及指标均匀一致性。
为实现上述目的及其他相关目的,
本发明的第一方面,提供一种一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺,包括如下步骤:
步骤一、对高功率激光焊接窗口片进行膜系参数设计,膜系参数包括:膜层数、膜层材料以及膜层材料的工具因子;膜层数为2n,其中n为正整数;单数层的膜层材料为二氧化铪,双数层的膜层材料为二氧化硅;二氧化铪的工具因子为125~130%,二氧化硅的工具因子为94~98%;
步骤二、根据设计的膜系参数,采用真空镀膜的方式在基片上进行膜系镀制,得到高功率激光焊接窗口片。
通过膜系设计,设计有利于提高抗激光损伤阈值的膜系,设计宽光谱以弥补均匀性不好造成的不足;通过此工艺镀膜后提高窗口片的穿透率,即提高了高功率激光膜波长的穿透力;通过此工艺镀膜后提高窗口片的抗激光损伤阈值;通过此工艺镀膜,提高生产镀膜宽容性,即镀膜后同一炉膜的属性及指标均匀一致,品质合格率有质的提高。
将氧化铪的工具因子设计在125~130%范围内,将二氧化硅的工具因子设计在94~98%范围内,提高了窗口片的穿透率和抗激光损伤阈值。
于本发明的一实施例中,所述步骤一中二氧化铪的工具因子为128%,此时效果最佳。
于本发明的一实施例中,所述步骤一中二氧化硅的工具因子为96%,此时效果最佳。
于本发明的一实施例中,所述步骤一中n为大于等于3的正整数。膜层设计至少为六层,提高了窗口片的抗激光损伤阈值。
于本发明的一实施例中,所述步骤一中n为6,其中第一层至第十二层的膜层厚度依次为10~11nm、72~73nm、17~18nm、262~263nm、4~5nm、134~135nm、17~18nm、26~27nm、123~124nm、36~37nm、9~10nm、155~156nm。将膜层数设计为12层,将每层的膜厚度设计在此范围内,提高了窗口片的穿透率、抗激光损伤阈值,且窗口片的指标均匀一致、合格率高。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海域申光电科技有限公司,未经上海域申光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910232180.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种适用于强降雨的新型雨量计
- 下一篇:光学元件以及形成光学元件的方法