[发明专利]用光学厚度监测系统管理涂层均匀性的方法

权利要求书

1.一种在涂覆系统中管理衬底上的涂层厚度均匀性的方法，包括：

使用包括多掩模组的均匀性控制系统和具有激光器阵列和探测器阵列的多光束光学监测系统，

基于穿过沉积过程中在所述衬底上形成的所述涂层的所有激光束的激光透射率计算误差函数；

将所有激光束的所述误差函数的值与一个预定的恒定值进行比较；

当所有激光束的所述误差函数的值小于或等于所述恒定值时，停止所述沉积过程；

当所述沉积过程停止时，在所述光学监测系统中计算每个激光束的误差函数；

通过绘制每个激光束的误差函数值相对于所述沉积过程的时间的曲线来计算每个激光束的沉积速率；

选择具有与其他激光束不同的沉积速率的激光束，并识别所述激光束通过的所述涂层的特定区域；

调整所述多掩模组，使其影响所述涂层的所述特定区域上的沉积过程，以便令所述特定区域具有合适的沉积速率；

在所述多掩模组的调整下，恢复下一个沉积过程以形成下一个涂层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述涂覆系统是物理气相沉积系统，所述物理气相沉积系统包括靶材和衬底。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多光束光学监测系统具有至少两个激光束。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述涂层由两个子层组成，并且紧邻所述衬底的子层中的材料具有比另一个子层中的材料更低的折射率。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述下一个涂层由两个子层组成，并且紧邻所述衬底的所述子层中材料具有比另一个子层中的材料更高的折射率。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多掩模组具有四个可调整掩模。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述可调整掩模具有可变的尺寸和形状。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，调整所述多掩模组是将四个可调整掩模中的一个放置在所述靶材和所述衬底之间。