[发明专利]一种耐磨型高透光浮法玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种耐磨型高透光浮法玻璃，其特征在于：

包括玻璃基板；

所述玻璃基板的表面依次设置有过渡层和耐磨层。

2.根据权利要求1所述一种高表面硬度低透光浮法玻璃，其特征在于：所述过渡层为氧化铝层，厚度50～100nm。

3.根据权利要求1所述一种高表面硬度低透光浮法玻璃，其特征在于：所述耐磨层为球状纳米二氧化硅水溶胶层，厚度为150～250nm。

4.一种耐磨型高透光浮法玻璃的制备方法，其特征在于：包括以下几个步骤，

(1)对玻璃基板清洗：基板首先用洗涤剂清洗，然后用去离子水超声清洗40～50min，再用乙醇超声清洗20～30min，最后对基板的表面进行烘干，备用；

(2)过渡层的制备：将清洗后的玻璃基板置于磁控镀膜的镀膜室中，抽真空至0.5～0.8MPa，加热至180～220℃，然后向镀膜室中充入溅射气体氩气至玻璃基板表面压强0.3～0.6Pa，磁控溅射靶材为铝质层，磁控溅射的阴极为纯氧，磁控镀膜后得到的氧化铝膜层厚度为50～100nm；

(3)制备酸性球状纳米二氧化硅水溶胶：预配置碱性二氧化硅水溶胶，将其通过强酸性阳离子交换树脂柱，再加入水杨酸作为酸度稳定剂至pH＝1.8～2.5制成酸性球状纳米二氧化硅水溶胶；

(4)耐磨层的制备：将酸性球状纳米二氧化硅水溶胶加入辊式镀膜机中，先开机循环5～10min至球状纳米二氧化硅水溶胶均匀附着在涂布辊上，调整镀膜机转速使涂布辊厚度到1500～2000nm，最后对步骤(2)所得玻璃基板表面的氧化铝膜层进行辊涂，耐磨层厚度为150～250nm；

(5)耐磨层固化：将(4)所得镀膜后的玻璃基板经过100～150℃烘道分段加热固化3～5min，最后将镀膜玻璃样片在500～720℃钢化炉中钢化3～5min，使镀膜层高温烧结在玻璃基板的表面。

5.根据权利要求4所述一种耐磨型高透光浮法玻璃的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，在反应溅射前对金属铝靶进行预轰击1.0～1.5h。

6.根据权利要求4所述一种耐磨型高透光浮法玻璃的制备方法，其特征在于：步骤(3)所述碱性二氧化硅水溶胶的制备方法是混合重量份为单位：质量分数95％的乙醇480～520份、去离子水320～350份、质量分数25％的浓氨水1.0～2.0份、质量分数99.0％工业级正硅酸乙酯150～180份，在温室水解反应12～48h，至正硅酸乙酯完全水解，然后加入1000～1200份去离子水，蒸馏出乙醇溶液，冷却后得到质量分数5～6％的碱性二氧化硅水溶胶。