[发明专利]隔离膜与包含其的电化学装置及电子装置

权利要求书

1.一种复合隔离膜，其包括：

第一多孔基材；

阳离子交换层，其中所述阳离子交换层包括经功能基团嫁接的第二多孔基材，所述功能基团选自磺酸基碱金属基团、磷酸基碱金属基团及其组合所组成的群组；以及

第一涂层，所述第一涂层包括无机颗粒和粘结剂，其中所述第一涂层设置于所述第一多孔基材和所述阳离子交换层之间。

2.根据权利要求1所述的复合隔离膜，其进一步包括第二涂层，所述第二涂层包括聚合物粘结剂，其中所述聚合物粘结剂选自由偏二氟乙烯-六氟丙烯的共聚物、偏二氟乙烯-三氯乙烯的共聚物、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、聚丙烯腈、聚四氟乙烯、聚六氟丙烯、苯乙烯-丁二烯的共聚物及其组合所组成的群组。

3.根据权利要求2所述的复合隔离膜，其中，所述第二涂层设置于所述第一涂层和所述阳离子交换层之间。

4.根据权利要求2所述的复合隔离膜，其中，所述第二涂层设置于所述第一涂层的表面。

5.根据权利要求1所述的复合隔离膜，其中，所述第二多孔基材选自由聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、乙烯-苯乙烯的共聚物、聚砜、聚醚醚酮、聚苯乙烯及其组合所组成的群组。

6.根据权利要求1所述的复合隔离膜，其中，所述功能基团的嫁接浓度为0.15mmol/g至0.95mmol/g，所述阳离子交换层的厚度为0.5μm至10μm。

7.一种复合隔离膜，其包括：

第一多孔基材；

阳离子交换层，其中所述阳离子交换层包括经功能基团嫁接的聚合物粘结剂，所述功能基团选自磺酸基碱金属基团、磷酸基碱金属基团及其组合所组成的群组；以及

第一涂层，所述第一涂层包括无机颗粒和粘结剂，其中所述第一涂层设置在所述第一多孔基材和所述阳离子交换层之间。

8.根据权利要求7所述的复合隔离膜，其中，所述聚合物粘结剂选自由偏二氟乙烯-六氟丙烯的共聚物、偏二氟乙烯-三氯乙烯的共聚物、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、聚丙烯腈、聚四氟乙烯、聚六氟丙烯、苯乙烯-丁二烯的共聚物及其组合所组成的群组。

9.根据权利要求7所述的复合隔离膜，其中，所述功能基团的嫁接浓度为0.15mmol/g至0.95mmol/g，所述阳离子交换层的厚度为0.5μm至10μm。

10.一种电化学装置，其包括：

正极极片；

负极极片；以及

根据权利要求1-9中任一权利要求所述的复合隔离膜，其中所述复合隔离膜设置于所述正极极片与所述负极极片之间。

11.一种电子装置，其包含权利要求10所述的电化学装置。