[发明专利]块体钌的化学机械抛光组合物

权利要求书

1.一种用于钌的抛光组合物，包含：

氨；

氧化卤素化合物；

磨料；和

任选的酸，

其中所述抛光组合物的pH为约5至10。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述氨以约0.01重量％至约10重量％的量存在。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述氨以约0.01重量％至约1重量％的量存在。

4.根据权利要求1所述的组合物，其中所述氧化卤素化合物包含选自由以下组成的组中的卤素：碘、溴、氯，及其任意组合。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述氧化卤素化合物为高碘酸。

6.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述氧化卤素化合物以约0.01重量％至约10重量％的量存在。

7.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述氧化卤素化合物以约0.01重量％至约2重量％的量存在。

8.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料选自由以下组成的组：氧化铝、二氧化硅、二氧化钛、二氧化铈、二氧化锆、其共形成产物，及其任意组合。

9.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料为二氧化硅。

10.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述磨料以约0.01重量％至约12重量％的量存在。

11.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述磨料以约0.01重量％至约6重量％的量存在。

12.根据权利要求1所述的组合物，其中所述酸选自由以下组成的组：羧酸、有机磺酸、有机膦酸，或其任意组合。

13.根据权利要求1所述的组合物，其中所述酸选自由以下组成的组：1,2-乙二磺酸、4-氨基-3-羟基-1-萘磺酸、8-羟基喹啉-5-磺酸、氨基甲磺酸、苯磺酸、羟胺O-磺酸、甲磺酸、间二甲苯-4-磺酸、聚(4-苯乙烯磺酸)、聚茴香脑磺酸、对甲苯磺酸和三氟甲磺酸；聚(乙烯基膦酸)、1-羟基乙烷-1,1-二膦酸、次氮基三(甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(甲基膦酸)、N,N,N’N’-乙二胺四(亚甲基膦酸)、正己基膦酸、苄基膦酸、苯基膦酸；及其任意组合。

14.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述酸以约0.01重量％至约10重量％的量存在。

15.根据权利要求1所述的组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述酸以约0.01重量％至约1重量％的量存在。

16.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物基本上不含唑类。

17.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物的pH为6至8。

18.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物由所述氨、所述氧化卤素化合物、所述磨料和任选的所述酸组成。

19.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物还包含：

水；和

少于约1重量％的任意另外的组分。