[发明专利]一种超纯水处理工艺

说明书

本发明提供一种超纯水处理工艺，属于水处理技术领域，该一种超纯水处理工艺具体包括以下步骤：原水水源的连接；自来水的预处理；EDI用水进水处理：第一超纯水的净化处理；第二超纯水的混床处理：二级紫外线杀菌：第三超纯水的抛光混床处理；终端超滤处理；超纯水的存储输送。本发明的一种超纯水处理工艺对现有超纯水处理工艺进行了改良，减小了酸碱的耗费量，避免经常进行离子再生的问题和减小对环境的破坏，达到环保的目的。

技术领域

本发明属于水处理技术领域，尤其涉及一种超纯水处理工艺。

背景技术

超纯水又称UPW水，是指电阻率达到18MΩ*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。可以用于超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制备过程。超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，其电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有离子的水。这样的水是一般工艺很难达到的程度，理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理，但是交换树脂的再生不便，质量难以保证。

超纯水可以在以下领域使用：(1)电子、电力、电镀、照明实验、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。(4)高压变电器的清洗等。

超纯水处理设备的工艺流程大致分成以下几种：

1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

中国专利公开号为CN108046493A，发明创造的名称为一种新型超纯水处理工艺，包括如下步骤：(1)预处理：将自来水或普通去离子水中的机械杂质滤除；(2)活性炭过滤：经预处理后的水进行活性炭吸附；(3)反渗透膜过滤：经活性炭吸附处理后的水用反渗透膜进行反渗透处理；(4)EDI用水进水处理：通过电去离子处理深度除盐后得到第一超纯水；(5)紫外线杀菌：将EDI用水进水处理后得到的第一超纯水经紫外线照射处理；(6)微滤处理：经紫外线照射处理后的水用微滤膜过滤器或者RO进行过滤处理，得到第二超纯水。

但是，现有的超纯水处理工具存在着耗费大量酸碱，需要经常进行离子再生和对环境有一定的破坏性的问题。

因此，发明一种超纯水处理工艺显得非常必要。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种超纯水处理工艺，以解决现有的超纯水处理工具存在着耗费大量酸碱，需要经常进行离子再生和对环境有一定的破坏性的问题。一种超纯水处理工艺具体包括以下步骤：

步骤一：原水水源的连接；

步骤二：自来水的预处理；

步骤三：EDI用水进水处理：

步骤四：第一超纯水的净化处理；

步骤五：第二超纯水的混床处理：

步骤六：二级紫外线杀菌：