[发明专利]一种调控粗化速率的增原子扩散模型有效
| 申请号： | 201910239046.1 | 申请日： | 2019-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN109913834B | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 胡超权;毕超斌;文懋;郑伟涛 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/08;G06F30/20 |
| 代理公司： | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人： | 段红玉 |
| 地址： | 130000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 调控 速率 原子 扩散 模型 | ||
【权利要求书】：
1.一种调控粗化速率的增原子扩散模型，其特征在于，包括以下步骤：
(1)通过台阶仪测量膜厚为d，通过原子力显微镜测量均方根粗糙度为RMS；
(2)通过计算RMS-d的直线的斜率，斜率为粗化速率νR；
(3)将步骤(1)中的RMS和d导入Gwyddion软件中，通过Gwyddion软件模拟表面形貌；
(4)通过Gwyddion软件模拟上可知薄膜表面的突出尺寸数据h和s，h为凸起在垂直方向的尺寸，s为凸起在水平方向的尺寸；
(5)选取薄膜进行沉积，随着增原子的不断沉积，当薄膜厚度增加到d0+Δd时，凸起在垂直方向的尺寸为h0+Δh，在水平方向的尺寸为s0+Δs，均方根粗糙度为RMS0+ΔRMS，通过Gwyddion软件模拟计算出Δd、Δh、ΔRMS和Δs，通过计算ΔRMS-Δd直线斜率，得出薄膜粗化速率νR，计算上坡扩散概率＝Δh/h0、下坡扩散概率＝Δs/s0，计算上坡/下坡扩散概率比δ＝(Δh/h0)/(Δs/s0)，通过公式νR＝k·δ，求出k，可知表面粗化速率νR正比于上坡/下坡扩散概率比。
2.根据权利要求1所述的一种调控粗化速率的增原子扩散模型，其特征在于：所述薄膜选用任何一种薄膜即可。
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