[发明专利]可弯折柔性显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种可弯折柔性显示装置，其特征在于，所述可弯折柔性显示装置包括：

柔性基板；

缓冲层，设置于所述柔性基板上；

薄膜场效应晶体管器件层，设置于所述缓冲层上，所述薄膜场效应晶体管器件层上设有多个贯通相对两表面的开孔；

平坦层，设置于所述薄膜场效应晶体管器件层及所述多个开孔内；

有机发光二极管器件层，设置于所述平坦层上；以及

封装层，设置于所述有机发光二极管器件层上。

2.根据权利要求1所述的可弯折柔性显示装置，其特征在于，所述缓冲层还包括：

氮化硅层，设置于所述柔性基板上；以及

氧化硅层，设置于所述氮化硅层上，所述器件层设置于所述氧化硅层上。

3.根据权利要求1所述的可弯折柔性显示装置，其特征在于，所述薄膜场效应晶体管器件层还包括：

多晶硅层，设置于所述缓冲层上；

栅极绝缘层，设置于所述多晶硅层上；

第一金属层，设置于所述栅极绝缘层上；

层间绝缘层，设置于所述第一金属层上；以及

第二金属层，设置于所述层间绝缘层上，所述平坦层设置于所述第二金属层上；

其中，所述多个开孔贯通所述多晶硅层、所述栅极绝缘层、所述第一金属层、所述层间绝缘层及所述第二金属层。

4.一种可弯折柔性显示装置的制作方法，其特征在于，所述可弯折柔性显示装置的制作方法包括以下步骤：

形成柔性基板；

于所述柔性基板上形成缓冲层；

于所述缓冲层上形成薄膜场效应晶体管器件层；

于所述薄膜场效应晶体管器件层上形成多个贯通相对两表面的开孔；

于所述薄膜场效应晶体管器件层上及所述开孔内形成平坦层；

于所述平坦层上形成有机发光二极管器件层；以及

于所述有机发光二极管器件层上形成封装层。

5.根据权利要求4所述的可弯折柔性显示装置的制作方法，其特征在于，所述形成缓冲层的步骤还包括：

于所述柔性基板上形成氮化硅层；以及

于所述氮化硅层上形成所述氧化硅层。

6.根据权利要求4所述的可弯折柔性显示装置的制作方法，其特征在于，所述形成薄膜场效应晶体管器件层的步骤还包括：

于所述缓冲层上形成所述多晶硅层，并在所述多晶硅层上刻蚀出需要的器件图形；

于所述多晶硅层上形成栅极绝缘层；

于所述栅极绝缘层上形成第一金属层；

于所述第一金属层上形成层间绝缘层；以及

于所述层间绝缘层上形成第二金属层。

7.根据权利要求4所述的可弯折柔性显示装置的制作方法，其特征在于，是通过激光照射所述薄膜场效应晶体管器件层的上表面，使其穿过所述薄膜场效应晶体管器件层的下表面，形成所述多个贯通相对两表面的开孔。

8.一种可弯折柔性显示装置，其特征在于，所述可弯折柔性显示装置包括：

柔性基板；

缓冲层，设置于所述柔性基板上；

薄膜场效应晶体管器件层，设置于所述缓冲层上；

平坦层，设置于所述薄膜场效应晶体管器件层上；

有机发光二极管器件层，设置于所述平坦层上；

多个开孔，由上至下依次贯通所述有机发光二极管器件层、所述平坦层及所述薄膜场效应晶体管器件层；以及

封装层，设置于所述有机发光二极管器件层上及所述多个开孔内。

9.根据权利要求8所述的可弯折柔性显示装置，其特征在于，所述缓冲层还包括：

氮化硅层，设置于所述柔性基板上；以及

氧化硅层，设置于所述氮化硅层上，所述器件层设置于所述氧化硅层上。