[发明专利]用于激光烧蚀的负性光致抗蚀剂组合物及其使用方法

权利要求书

1.用于负性色调、碱水溶液可显影的宽带UV抗蚀剂的组合物，其在暴露于宽带辐照的区域中也对随后的通过在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光的冷激光烧蚀敏感，其中所述组合物由类型a)和b)的组分，c)溶剂，d)表面活性剂和e)抑制剂组成；

a)用于赋予负性色调、碱水溶液可显影的宽带UV抗蚀剂特性的组分(X)，其中(X)包含

a-2)至少一种包含下式结构的聚合物树脂：

其中R_1b-R_5b中的每个独立地选自H，F和CH₃，R_6b选自取代的芳基，未取代的芳基，取代的杂芳基和未取代的杂芳基；R_7b是取代或未取代的苄基；R_8b选自直链或支链的C₂-C₁₀羟烷基和丙烯酸C₂-C₁₀羟烷基酯；R_9b是酸可裂解基团，v＝10-40摩尔％，w＝0-35摩尔％，x＝0-60摩尔％，y＝10-60摩尔％和z＝0-45摩尔％；

b-2)一种或多种通过光化辐射活化的自由基引发剂，

c-2)一种或多种能够进行自由基交联的可交联丙烯酸化单体，其中丙烯酸酯官能度大于1；

b)冷激光烧蚀准分子激光敏化剂组分体系，由式(II)组成；

其中R₃选自氢，烷基，亚烷基氟烷基，亚烷基芳基和亚烷基氧基烷基；X选自Cl，Br或I；并且此外其中所述组合物是可以被涂覆至30至60微米的厚度的组合物；

c)溶剂，选自酮，多元醇及其衍生物，环醚，酯，具有芳族基团的溶剂。

2.根据权利要求1的组合物，其中所述酮包括丙酮，甲基乙基酮，环己酮，甲基异戊基酮或甲基戊基酮。

3.根据权利要求1的组合物，其中所述多元醇及其衍生物包括乙二醇的单甲基醚、单乙基醚、单丙基醚、单丁基醚或单苯基醚，乙二醇单乙酸酯，二甘醇，二甘醇单乙酸酯，丙二醇，丙二醇单乙酸酯，一缩二丙二醇或一缩二丙二醇的单乙酸酯。

4.根据权利要求1的组合物，其中所述环醚包括二烷或四氢呋喃。

5.根据权利要求1的组合物，其中所述酯包括乳酸甲酯，乳酸乙酯，乙酸甲酯，乙酸乙酯或乙酸丁酯。

6.根据权利要求1的组合物，其中所述具有芳族基团的溶剂包括苯甲醚，乙苯，二甲苯，氯苯或甲苯。

7.权利要求1的组合物，其中共轭芳基添加剂(II)在220nm至310nm的波长之间具有200至1000m²/mol的摩尔吸收率。

8.权利要求1的组合物，其中共轭芳基添加剂(II)在248nm处具有200至1000m²/mol的摩尔吸收率。

9.权利要求1的组合物，其中共轭芳基添加剂(II)在308nm处具有200至1000m²/mol的摩尔吸收率。

10.权利要求1的组合物，其中共轭芳基添加剂是(II)中R₃为烷基并且X为Cl。